高介电性膜
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102666682A8

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201180004932.8

    申请日:2011-01-11

    Abstract: 本发明提供高介电性膜,其为含有成膜树脂(A)和无机物颗粒(B)的膜,其中,成膜树脂(A)含有偏二氟乙烯系树脂(a1);相对于成膜树脂(A)100质量份,无机物颗粒(B)的含量为0.01质量份以上且小于10质量份;并且无机物颗粒(B)为选自由下述(B1)、(B2)和(B3)组成的组中的至少一种,(B1)为周期表2族、3族、4族、12族或13族中的1种金属元素的无机氧化物颗粒、或它们的无机氧化物复合颗粒;(B2)为式(1)M1a1Nb1Oc1(式中,M1为2族金属元素;N为4族金属元素;a1为0.9~1.1;b1为0.9~1.1;c1为2.8~3.2;M1和N分别可以为两种以上金属元素)所示的无机复合氧化物颗粒;(B3)为周期表2族、3族、4族、12族或13族金属元素的氧化物与氧化硅的无机复合氧化物颗粒。该膜在维持VdF系树脂的高相对介电常数的同时提高体积电阻率。

Patent Agency Ranking