光刻用清洗剂或冲洗剂
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1928725A

    公开(公告)日:2007-03-14

    申请号:CN200610126759.X

    申请日:2006-09-06

    Inventor: 堀口明 片山彻

    Abstract: 本发明提供对抗蚀剂、防反射膜等的溶解性、剥离性好的光刻用清洗剂或冲洗剂。光刻用清洗剂或冲洗剂包含:溶剂A和溶剂B,其中,溶剂A选自(a1)丙二醇-1-烷基醚乙酸酯、(a2)1,3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯及(a3)乙酸烷基酯中的至少1种,溶剂B选自(b1)丙二醇-1-烷基醚及(b2)1,3-丁二醇-3-烷基醚中的至少1种,该清洗剂或冲洗剂与等体积的水混合时可形成均质溶液。

    抗蚀剂组合物
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101109899B

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN200610105955.9

    申请日:2006-07-19

    Abstract: 本发明提供一种不仅可以提高制备抗蚀剂时的溶解性、显影时的抗蚀膜密合性等特性,而且可以提高抗蚀稳定性,安全性也优异的抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物是含有抗蚀成分和有机溶剂的抗蚀剂组合物,其中,所述有机溶剂包含选自(a1)C3~6链烷二醇、(a2)单烷氧基C3~6链烷二醇、(b1)C5~6链烷二醇单乙酸酯、(b2)单烷氧基C3~6链烷二醇单乙酸酯、(c1)C5~6链烷二醇二乙酸酯、以及(c2)单烷氧基C3~6链烷二醇二乙酸酯中的至少一种溶剂。

    抗蚀剂组合物
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101482698A

    公开(公告)日:2009-07-15

    申请号:CN200810002256.0

    申请日:2008-01-08

    Abstract: 本发明提供一种不仅使抗蚀剂制备时的溶解性、显影时抗蚀膜粘附性的特性提高,还使抗蚀剂稳定性提高,且安全性优异的抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物含有抗蚀剂成分和有机溶剂,所述有机溶剂含有选自(a)由羧酸部分的碳原子数为2~6的羟基多元羧酸酯构成的羟基多元羧酸酯化合物组、(b)由羧酸部分的碳原子数为2~6的乙酰氧基羧酸酯构成的乙酰氧基羧酸酯化合物组以及(c)由羧酸部分的碳原子数为2~6的烷氧基羧酸酯构成的烷氧基羧酸酯化合物组之中的至少1种有机溶剂。

    颜料分散液
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101220229A

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200810002255.6

    申请日:2008-01-08

    Abstract: 本发明涉及一种颜料分散性和分散用树脂的溶解性优异、涂布性高、能形成透明性和对比度更高的涂膜的颜料分散液。该颜料分散液含有颜料和有机溶剂,该有机溶剂含有选自(a)由羧酸部分的碳原子数为2~6的羟基羧酸酯构成的羟基羧酸酯化合物组、(b)由羧酸部分的碳原子数为2~6的乙酰氧基羧酸酯构成的乙酰氧基羧酸酯化合物组以及(c)由羧酸部分的碳原子数为2~6的烷氧基羧酸酯构成的烷氧基羧酸酯化合物组之中的至少1种有机溶剂。

    光刻用清洗剂或冲洗剂
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101046641A

    公开(公告)日:2007-10-03

    申请号:CN200710088926.0

    申请日:2007-03-26

    Inventor: 堀口明 片山彻

    Abstract: 本发明提供对由有机溶剂溶液形成的抗蚀剂、防反射膜或隔光膜等具有良好的溶解性、剥离性的光刻用清洗剂或冲洗剂。该光刻用清洗剂或冲洗剂的特征在于,含有可以具有取代基的乙酸环烷醇酯。还可以含有单丙二醇烷基醚、一缩二丙二醇烷基醚、二缩三丙二醇烷基醚、单丙二醇烷基醚乙酸酯、一缩二丙二醇烷基醚乙酸酯、二缩三丙二醇烷基醚乙酸酯、1,3-丁二醇烷基醚、1,3-丁二醇烷基醚乙酸酯、甘油烷基醚和甘油烷基醚乙酸酯作为有机溶剂。

    抗蚀剂组合物
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101482698B

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN200810002256.0

    申请日:2008-01-08

    Abstract: 本发明提供一种不仅使抗蚀剂制备时的溶解性、显影时抗蚀膜粘附性的特性提高,还使抗蚀剂稳定性提高,且安全性优异的抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物含有抗蚀剂成分和有机溶剂,所述有机溶剂含有选自(a)由羧酸部分的碳原子数为2~6的羟基多元羧酸酯构成的羟基多元羧酸酯化合物组、(b)由羧酸部分的碳原子数为2~6的乙酰氧基羧酸酯构成的乙酰氧基羧酸酯化合物组以及(c)由羧酸部分的碳原子数为2~6的烷氧基羧酸酯构成的烷氧基羧酸酯化合物组之中的至少1种有机溶剂。

    颜料分散液
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101220229B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200810002255.6

    申请日:2008-01-08

    Abstract: 本发明涉及一种颜料分散性和分散用树脂的溶解性优异、涂布性高、能形成透明性和对比度更高的涂膜的颜料分散液。该颜料分散液含有颜料和有机溶剂,该有机溶剂含有选自(a)由羧酸部分的碳原子数为2~6的羟基羧酸酯构成的羟基羧酸酯化合物组、(b)由羧酸部分的碳原子数为2~6的乙酰氧基羧酸酯构成的乙酰氧基羧酸酯化合物组以及(c)由羧酸部分的碳原子数为2~6的烷氧基羧酸酯构成的烷氧基羧酸酯化合物组之中的至少1种有机溶剂。

    抗蚀剂组合物
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101109899A

    公开(公告)日:2008-01-23

    申请号:CN200610105955.9

    申请日:2006-07-19

    Abstract: 本发明提供一种不仅可以提高制备抗蚀剂时的溶解性、显影时的抗蚀膜密合性等特性,而且可以提高抗蚀稳定性,安全性也优异的抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物是含有抗蚀成分和有机溶剂的抗蚀剂组合物,其中,所述有机溶剂包含选自(a1)C3~6链烷二醇、(a2)单烷氧基C3~6链烷二醇、(b1)C5~6链烷二醇单乙酸酯、(b2)单烷氧基C3~6链烷二醇单乙酸酯、(c1)C5~6链烷二醇二乙酸酯、以及(c2)单烷氧基C3~6链烷二醇二乙酸酯中的至少一种溶剂。

    抗蚀剂组合物
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1782877A

    公开(公告)日:2006-06-07

    申请号:CN200510124725.2

    申请日:2005-11-16

    Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂组合物,其不仅可以提高调制抗蚀剂时的溶解性、显影时的抗蚀膜密合性的特性,而且抗蚀剂稳定性提高,还具有优异的安全性,其是含有抗蚀剂成分和有机溶剂的抗蚀剂组合物,该有机溶剂是从含有一缩二丙二醇单烷基醚、一缩二丙二醇烷基醚乙酸酯等的组中选择的至少1种一缩二丙二醇衍生物,且该一缩二丙二醇衍生物的用下述式(1)~(4)(式中,R1表示烷基或芳基,R2表示氢原子、烷基、芳基、乙酰基或丙酰基,R2表示乙酰基或丙酰基)表示的结构异构体中的式(1)表示的结构异构体的含有率为30重量%或30重量%以上且不足100重量%的结构异构体混合物。

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