公开(公告)号：CN103295936A

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201310058542.X

申请日：2013-02-25

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 根来世 ,  村元僚 ,  林豊秀 ,  桥本光治 ,  永井泰彦

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67023 ,  C23C16/46 ,  C23C16/48 ,  C23C16/481 ,  C23C16/482 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/6708

Abstract: 基板处理装置用于对基板的主面施行利用药液的处理。该基板处理装置包括：基板保持单元，其用于保持基板；药液供给单元，其具有用于向上述基板保持单元所保持的基板的主面供给药液的药液喷嘴；加热器，其直径小于基板的直径，并且具有红外线灯，该加热器与上述基板保持单元所保持的基板的主面相向配置，通过从上述红外线灯照射红外线来对供给至基板的主面的药液进行加热；加热器移动单元，其用于使上述加热器沿着上述基板保持单元所保持的基板的主面移动。