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公开(公告)号：CN107614736A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680021088.2
申请日：2016-04-15
Abstract: 本发明提供一种蒸镀图案的形成方法，其使用设置有与蒸镀制作的图案对应的多个开口部的蒸镀掩模，在蒸镀对象物形成蒸镀图案，该形成方法包括：密合工序，其在蒸镀对象物的一面侧配置蒸镀掩模，在蒸镀对象物的另一面侧将压入部件、及磁性板按该顺序重合配置，并利用磁性板的磁性使蒸镀对象物和蒸镀掩模密合；以及，蒸镀图案形成工序，其在密合工序后，使从蒸镀源放出的蒸镀材料通过开口部附着于蒸镀对象物上，在蒸镀对象物形成蒸镀图案。
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公开(公告)号：CN107614736B
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201680021088.2
申请日：2016-04-15
Abstract: 本发明提供一种蒸镀图案的形成方法，其使用设置有与蒸镀制作的图案对应的多个开口部的蒸镀掩模，在蒸镀对象物形成蒸镀图案，该形成方法包括：密合工序，其在蒸镀对象物的一面侧配置蒸镀掩模，在蒸镀对象物的另一面侧将压入部件、及磁性板按该顺序重合配置，并利用磁性板的磁性使蒸镀对象物和蒸镀掩模密合；以及，蒸镀图案形成工序，其在密合工序后，使从蒸镀源放出的蒸镀材料通过开口部附着于蒸镀对象物上，在蒸镀对象物形成蒸镀图案。
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公开(公告)号：CN109913802B
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN201910052563.8
申请日：2014-03-24
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/24 , H01L21/673 , H01L51/50
Abstract: 本发明提供一种即使在大型化的情况下，也能够同时满足高精细化和轻质化二者，且可以在保持强度的同时形成高精细的蒸镀图案的蒸镀掩模；及可简便制造该蒸镀掩模的蒸镀掩模准备体或蒸镀掩模的制造方法；以及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。将设有缝隙(15)的金属掩模(10)、和在与缝隙(15)重合的位置设有与要蒸镀制作的图案相对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层，金属掩模(10)具有设有缝隙(15)的一般区域(10a)、和壁厚厚于该一般区域的厚壁区域(10b)。
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公开(公告)号：CN110724904B
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN201910982133.6
申请日：2015-03-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供能够以简单的方法将蒸镀掩模拉伸的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及能够以高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法及用于所述方法的拉伸装置。在蒸镀掩模(100)的拉伸方法中，在蒸镀掩模(100)的一面上重叠拉伸辅助部件(50)，在蒸镀掩模(100)的一面和拉伸辅助部件(50)重合的部分的至少一部，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上，通过拉伸被固定在蒸镀掩模(100)上的拉伸辅助部件(50)对固定于该拉伸辅助部件(50)上的蒸镀掩模进行拉伸，由此解决上述课题。
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公开(公告)号：CN110331365B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN201910716986.5
申请日：2015-05-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供可以在满足高精细化和轻量化二者的同时，还能够正确地对形成于树脂掩模开口部的形状图案是否正常进行确认的蒸镀掩模、用于得到该蒸镀掩模的蒸镀掩模前体、以及具备该蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模，还提供使用了该带框架的蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法。蒸镀掩模(100)是将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层而成的，并且使用波长550nm的光线透射率为40％以下的树脂掩模，由此解决上述课题。
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公开(公告)号：CN105296923B
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201510679144.9
申请日：2013-01-11
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在大型化的情况下也能够满足高精细化和轻量化二者的拼版蒸镀掩模的制造方法。配置于框体内的开口空间的多个掩模分别由设有缝隙的金属掩模、和位于该金属掩模的表面且纵横配置多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模构成，在其形成上，在所述框体上安装了各金属掩模及用于制作所述树脂掩模的树脂薄膜材料之后，通过对所述树脂薄膜材料进行加工，纵横地形成多个与要蒸镀制作的图案对应的开口部，制造上述构成的拼版蒸镀掩模。
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公开(公告)号：CN105637113B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201480056597.X
申请日：2014-10-09
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 提供蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模，及提供精度良好的有机半导体元件的的制造方法。在设有与蒸镀图案对应的开口部的树脂掩模的面上层积设有缝隙的金属掩模而构成的蒸镀掩模中，树脂掩模的开口部的内壁面在厚度方向截面具有至少一个拐点，将树脂掩模的不与金属掩模相接侧的面(第一面)和内壁面的交点设为第一交点，将树脂掩模的与金属掩模相接侧的面(第二面)与内壁面的交点设为第二交点，使将从第一交点朝向第二交点位于最初的拐点(第一拐点)和第一交点连接的直线与第一面所构成的角度(01)大于将第一拐点和第二交点连接的直线和第二面所构成的角度，并且将厚度方向截面中的内壁面的形状设成从第一面朝向第二面侧扩大的形状，由此即使在大型化的情况下，也可满足高精细化和轻量化，并且可在保持开口部的强度的同时，抑制阴影产生。
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公开(公告)号：CN110306156A
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201910716655.1
申请日：2015-05-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供可以在满足高精细化和轻量化二者的同时，还能够正确地对形成于树脂掩模开口部的形状图案是否正常进行确认的蒸镀掩模、用于得到该蒸镀掩模的蒸镀掩模前体、以及具备该蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模，还提供使用了该带框架的蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法。蒸镀掩模(100)是将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层而成的，并且使用波长550nm的光线透射率为40％以下的树脂掩模，由此解决上述课题。
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