公开(公告)号：CN116657084A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202310153425.5

申请日：2023-02-22

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 冈本英介 ,  小井浩司

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  B23P15/00 ,  H10K71/16

Abstract: 本发明提供蒸镀掩模装置、蒸镀掩模装置的制造方法及有机器件的制造方法。本公开的蒸镀掩模装置具备框架、蒸镀掩模和对准掩模。对准掩模包括在第二方向上位于互不相同的位置并且与框架重叠的2个第一对准掩模孔。相对于第一对准掩模孔，将框架与对准掩模接合在一起的第一焊接部位于第二方向上的对准掩模的外侧。相对于第一对准掩模孔，将框架与对准掩模接合在一起的第二焊接部位于第二方向上的对准掩模的内侧。

公开(公告)号：CN116964400A

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202280015339.1

申请日：2022-02-18

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 小田和范 ,  太田贵之 ,  高桥伸一郎 ,  武田利彦 ,  小泽昂平 ,  小井浩司

IPC: F28D15/02

Abstract: 蒸发室具备：主体片材，其具有第1主体面和设置于与第1主体面相反一侧的第2主体面；空间部，其设置于主体片材的第1主体面；第1片材，其层叠于主体片材的第1主体面而覆盖空间部；以及引入部，其在俯视时被引入至比主体片材或第1片材的外周缘靠空间部侧的位置。