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公开(公告)号：CN100440579C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN03800011.3
申请日：2003-01-08
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , H01L27/3211 , H01L51/0018
Abstract: 本发明涉及一种EL元件的制造方法，包括：在设有表面具有光致抗蚀剂层的至少1色的发光部的基板上，涂布呈不同于所述发光部的颜色的异色发光层形成用涂布液，并所述光致抗蚀剂层及基板上形成异色发光层的工艺；在所述异色发光层上形成异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺；对所述异色发光层用光致抗蚀剂层进行图案曝光后，通过进行显影形成图案，留下形成异色发光部的部分的异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺；和通过除去已除去所述异色发光层用光致抗蚀剂层的部分的异色发光层，形成在表面具有异色发光层用光致抗蚀剂层的异色发光部的工艺。通过本发明可以避免各发光部上层压有多层多余的层的状态，且可以容易且迅速地剥离这些多余层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101558683A
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200780046479.0
申请日：2007-12-19
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: H05B33/04 , H01L51/0013 , H01L51/50 , H01L51/56
Abstract: 本发明的主要目的在于提供有机EL层的图案化容易、能减少有机EL层对电极层的损害、发光特性优异的有机EL元件的制造方法。本发明通过提供具有以下特征的有机EL元件来解决上述技术问题，该有机EL元件由基板、第一电极层、润湿性变化层、有机EL层和第二电极层依次层叠而成，上述润湿性变化层在伴随着能量照射的光催化剂的作用下润湿性发生变化，对上述能量而言为惰性，并且在表面具有由亲液性区域和疏液性区域构成的润湿性变化图案，所述亲液性区域含有聚有机硅氧烷，所述疏液性区域含有含氟聚有机硅氧烷。
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公开(公告)号：CN1496666A
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN03800011.3
申请日：2003-01-08
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , H01L27/3211 , H01L51/0018
Abstract: 本发明的主要目的在于，提供一种在采用光刻法形成发光部时可以避免在已形成为图案形状的各发光部上层压有多层多余的层的状态，且在该多余层的剥离工艺中可以容易且迅速地进行剥离处理的EL元件的制造方法。为了达到上述目的，本发明提供具有下述特征的EL元件的制造方法，即，在采用光刻法的EL元件的制造方法中，具有：在设有表面具有光致抗蚀剂层的至少1色的发光部的基板上，涂布呈不同于所述发光部的颜色的异色发光层形成用涂布液，并形成异色发光层的工艺；在所述异色发光层上涂布光致抗蚀剂，形成异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺；对所述异色发光层用光致抗蚀剂层进行图案曝光后，通过进行显影形成图案，留下形成异色发光部的部分的异色发光层用光致抗蚀剂层的工艺；和通过除去已除去所述异色发光层用光致抗蚀剂层的部分的异色发光层，形成在表面具有异色发光层用光致抗蚀剂层的图案形状的异色发光部的工艺。
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公开(公告)号：CN1407375A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02128616.7
申请日：2002-07-05
Applicant: 大日本印刷株式会社
Inventor： 伊藤范人
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337 , G02B5/00
CPC classification number: G02B5/201 , G02F1/133516
Abstract: 在一种玻璃基体11上配备的向列层12上形成胆甾液晶涂膜13’(摘要附图(a))，并在温度等于或高于构成所述薄膜的手性向列液晶的液晶相转换温度时进行热向列过程(摘要附图(b))。能够激活手性向列液晶内旋光基团的激活射线施加到胆甾液晶涂膜13’使旋光基团失活，从而形成胆甾层13，该胆甾层含有合乎要求区域和指令色的、按照激活射线施加区域和施加于该区域激活射线的量而建立的显色区(摘要附图(c))。然后在低于手性向列液晶的液晶相转换温度的温度令胆甾层13进行热向列过程(摘要附图(d))。最后，在大气中向胆甾层13施加预定量的紫外线使其中的旋光基团失活，从而三维交联胆甾层13使其老化(摘要附图(e))。
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公开(公告)号：CN100477331C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN03810515.2
申请日：2003-05-08
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H01L51/56
CPC classification number: H01L51/56 , H01L27/3211 , H01L51/0018
Abstract: 本发明的主要目的是提供一种在剥离光致抗蚀剂层等不需要的层时可以很好地进行剥离的EL元件制造方法。为了达到上述目的，本发明提供的EL元件的制造方法的特征在于，具有：在至少形成电极层的基板上形成有机EL层的有机EL层形成工序，在所述有机EL层上形成剥离层的剥离层形成工序，在所述剥离层上形成光致抗蚀剂层的光致抗蚀剂层形成工序，通过对所述光致抗蚀剂层进行曝光、显影而形成图案的光致抗蚀剂层图案形成工序，除去所述光致抗蚀剂层未覆盖的部分的有机EL层的有机EL层显影工序，通过剥离所述剥离层除去层叠在其上面的光致抗蚀剂层的剥离层剥离工序。
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公开(公告)号：CN1653855A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810515.2
申请日：2003-05-08
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H05B33/10
CPC classification number: H01L51/56 , H01L27/3211 , H01L51/0018
Abstract: 本发明的主要目的是提供一种在剥离光致抗蚀剂层等不需要的层时可以很好地进行剥离的EL元件制造方法。为了达到上述目的，本发明提供的EL元件的制造方法的特征在于，具有：在至少形成电极层的基板上形成有机EL层的有机EL层形成工序，在所述有机EL层上形成剥离层的剥离层形成工序，在所述剥离层上形成光致抗蚀剂层的光致抗蚀剂层形成工序，通过对所述光致抗蚀剂层进行曝光、显影而形成图案的光致抗蚀剂层图案形成工序，除去所述光致抗蚀剂层未覆盖的部分的有机EL层的有机EL层显影工序，通过剥离所述剥离层除去层叠在其上面的光致抗蚀剂层的剥离层剥离工序。
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