一种动态结晶设备及动态结晶方法

    公开(公告)号:CN105664521A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201610107401.6

    申请日:2016-02-25

    CPC classification number: B01D9/0009

    Abstract: 本发明公开了一种动态结晶设备及动态结晶方法。该动态结晶设备包括结晶釜,结晶釜外设有釜外循环通道用于实现待结晶液体在釜内外循环流动;所述釜外循环通道设有两个以上吸液口,吸液口连接于结晶釜的不同高度上,用于实现不同高度处待结晶液体的循环流动。本发明提供的动态结晶设备,通过不同高度吸液点的设置,在结晶初期可以使结晶釜内待结晶液体实现良好的循环流动和混合,有利于形成大小均匀的晶核;在结晶后期,晶体颗粒在结晶釜中下部富集,可选择关闭下部循环,使液体在中上部循环,从而可以使细小晶体颗粒继续生长,最终得到粒度均匀、晶型完整的晶体颗粒。

    一种利用氟硅酸生产无水氟化氢和四氟化硅的方法

    公开(公告)号:CN102275877A

    公开(公告)日:2011-12-14

    申请号:CN201110207001.X

    申请日:2011-07-22

    Abstract: 本发明公开了一种利用氟硅酸生产无水氟化氢和四氟化硅的方法,本发明方法具体为先将氟硅酸溶液在常温下与硫酸钠反应,得到氟硅酸钠和稀硫酸,过滤,稀硫酸经浓缩制成浓硫酸,之后与滤饼氟硅酸钠软膏混合,加入预反应器中,50~200℃下反应生成四氟化硅气体,四氟化硅气体经脱气塔处理后制得四氟化硅产品;预反应器中剩余的物料输送至回转炉中,之后在回转炉中于150~350℃释放出氟化氢气体,氟化氢气体经提纯后制得无水氟化氢产品,回转炉内剩余的炉渣经炉尾排出。本发明利用的氟硅酸溶液来源于磷肥副产或无水氟化氢副产,原料成本低,开辟了新的氟源,制得的无水氟化氢和四氟化硅产品应用领域广阔,经济效益突出,产品附加值高。

    一种聚合物电解质及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN109103499A

    公开(公告)日:2018-12-28

    申请号:CN201710470352.7

    申请日:2017-06-20

    CPC classification number: H01M10/0565 H01M10/0525

    Abstract: 本发明涉及一种聚合物电解质及其制备方法和应用。该聚合物电解质包括结构单元A、结构单元B、结构单元C三种结构单元,所述聚合物电解质在室温下为固体。本发明的聚合物电解质,具有结构单元A、结构单元B、结构单元C三种结构单元,其中结构单元A为锂离子提供单元;结构单元B为锂离子传导单元;结构单元C为聚合物结构支撑单元,为聚合物电解质提供一定的机械强度,同时还具有锂离子传输功能;结构单元A、结构单元B、结构单元C自身或相互之间以单键连接,该聚合物电解质的机械性能和柔韧性较好,可以根据外力的改变而不断变化,从而降低对锂离子传输的影响,保持电流密度的均一性,有效抑制锂枝晶的生长。

    一种动态结晶设备及动态结晶方法

    公开(公告)号:CN105664521B

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:CN201610107401.6

    申请日:2016-02-25

    Abstract: 本发明公开了一种动态结晶设备及动态结晶方法。该动态结晶设备包括结晶釜,结晶釜外设有釜外循环通道用于实现待结晶液体在釜内外循环流动;所述釜外循环通道设有两个以上吸液口,吸液口连接于结晶釜的不同高度上,用于实现不同高度处待结晶液体的循环流动。本发明提供的动态结晶设备,通过不同高度吸液点的设置,在结晶初期可以使结晶釜内待结晶液体实现良好的循环流动和混合,有利于形成大小均匀的晶核;在结晶后期,晶体颗粒在结晶釜中下部富集,可选择关闭下部循环,使液体在中上部循环,从而可以使细小晶体颗粒继续生长,最终得到粒度均匀、晶型完整的晶体颗粒。

    一种聚合物电解质及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN109103499B

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN201710470352.7

    申请日:2017-06-20

    Abstract: 本发明涉及一种聚合物电解质及其制备方法和应用。该聚合物电解质包括结构单元A、结构单元B、结构单元C三种结构单元,所述聚合物电解质在室温下为固体。本发明的聚合物电解质,具有结构单元A、结构单元B、结构单元C三种结构单元,其中结构单元A为锂离子提供单元;结构单元B为锂离子传导单元;结构单元C为聚合物结构支撑单元,为聚合物电解质提供一定的机械强度,同时还具有锂离子传输功能;结构单元A、结构单元B、结构单元C自身或相互之间以单键连接,该聚合物电解质的机械性能和柔韧性较好,可以根据外力的改变而不断变化,从而降低对锂离子传输的影响,保持电流密度的均一性,有效抑制锂枝晶的生长。

    一种连续制备高纯五氯化磷的方法和装置

    公开(公告)号:CN112919439A

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN202110261875.7

    申请日:2021-03-10

    Abstract: 本发明提供一种连续制备高纯五氯化磷的方法和装置,属于五氯化磷制备技术领域。其中制备方法包括以下步骤:(1)制备由氯气和惰性气体组成的混合气体;(2)将液态三氯化磷雾化后,与所述混合气体进行混合反应,得到固态高纯五氯化磷,混合气体反应之前的温度低于所述混合反应的反应温度;(3)混合反应后所产生的尾气进行回收,返回步骤(1)用于制备混合气体。本发明采用惰性气体充当载气,携载氯气与雾化后的三氯化磷进行混合反应,可以降低氯气与三氯化磷的反应程度,还可以反应产生的热量带走,最终通过温度控制克服温度波动大和副反应增多的问题,另外反应后余下的惰性气体可以循环使用,实现了五氯化磷的连续制备,适合工业化生产。

    玻璃刮水装置及使用该刮水装置的AG玻璃加工设备

    公开(公告)号:CN109708432A

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201711008601.7

    申请日:2017-10-25

    Abstract: 本发明涉及玻璃刮水装置及使用该刮水装置的AG玻璃加工设备,以解决现有技术中由于玻璃表面水量分布不均而导致玻璃表面蚀刻程度不同的问题。玻璃刮水装置包括支架,支架上设有用于水平输送玻璃的玻璃输送机构,支架上于玻璃输送机构上方的设定位置处还设有可绕自身轴线转动的转轴,所述转轴的水平轴线垂直于玻璃输送机构的输送方向,转轴转动时竖直方向上最低点的线速度方向与玻璃输送机构的输送方向一致,转轴还具有通过转动将位于转轴正下方的玻璃表面上的积水刮减至设定厚度的刮水外周面。本发明使玻璃表面的水量均匀且达到设定的厚度。在对玻璃进行喷淋蚀刻时,能够保证玻璃表面的蚀刻程度达到一致。

    一种卧式结晶器
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109289232A

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201811246066.3

    申请日:2018-10-25

    Abstract: 本发明公开一种卧式结晶器,包括卧式筒体,其上端设置有母液进口,下端设置有排液口和排结晶料口,排液口处设置有上展阀,排结晶料口处设置有下展阀,卧式筒体的侧壁外侧由内而外依次设置有夹套和保温层,夹套上设置有冷媒进口和冷媒出口,卧式筒体中部水平设置有旋转轴,旋转轴的一端与驱动装置相连接,且连接处设置有轴封,旋转轴上设置有刮刀组件,刮刀组件包括多个刀柄和刀体,刀柄的一端在旋转轴的一侧呈直线排列连接,刀柄的另一端固定有刀体,刀体倾斜设置且其刀刃朝向卧式筒体内壁,使卧式筒体内的结晶料移至排结晶料口。该卧式结晶器的结构设计,可减少工人的劳动强度,对于危险性的母液,降低了工人作业环境的危险系数。

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