半导体激光装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1260863C

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:CN200310119982.8

    申请日:2003-11-28

    Inventor: 大渊修三

    CPC classification number: H01S5/2232 H01S5/2059 H01S5/2231 H01S5/3211

    Abstract: 半导体激光装置具有一对包层[(102)和(105)、(107)],其之间插入一激活层(103)。该包层中至少一层(105)、(107)除在该包层中的掺杂物外,在该包层的整个区域具有相同组份,并有与相邻部分具有不同传导类型的条状部分(107)。

    半导体激光装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1510804A

    公开(公告)日:2004-07-07

    申请号:CN200310119982.8

    申请日:2003-11-28

    Inventor: 大渊修三

    CPC classification number: H01S5/2232 H01S5/2059 H01S5/2231 H01S5/3211

    Abstract: 半导体激光装置具有一对包层[(102)和(105)、(107)],其之间插入一激活层(103)。该包层中至少一层(105)、(107)除在该包层中的掺杂物外,在该包层的整个区域具有相同组份,并有与相邻部分具有不同传导类型的条状部分(107)。

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