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公开(公告)号:CN102013453B
公开(公告)日:2012-06-06
申请号:CN200910195208.2
申请日:2009-09-04
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明属于微电子技术领域,涉及一种具有高热释电性能的反铁电薄膜制备方法。本发明利用反铁电薄膜在某一临界厚度以下显示铁电性而在此临界厚度以上显示反铁电性的特征,构建一层凹凸有致具有多种不同厚度的台阶状反铁电薄膜,每一阶台阶对应一种厚度,可以在单层反铁电薄膜上实现铁电区域和反铁电区域的交叉排列。由于反铁电薄膜和铁电薄膜堆叠后,薄膜的热释电系数相比单纯的反铁电薄膜会得到很大的提高,因此利用本方法制备的反铁电薄膜可以作为良好的热释电材料,用于红外热释电探测器,机敏器件和系统,且制备方法简单易操作,具有很大的成本优势。
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公开(公告)号:CN101620879A
公开(公告)日:2010-01-06
申请号:CN200910055566.3
申请日:2009-07-29
Applicant: 复旦大学
CPC classification number: G11C11/5657
Abstract: 本发明提出一种实现铁电存储器多位数据存储的操作方法,属于微电子技术领域,它在铁电存储器存储单元中,通过外加不同的写脉冲电压来使得铁电薄膜相应产生不同大小的剩余极化强度,并相应定义为不同的存储态,再通过一个固定外加正读电压,读取相应的各存储态,从而在单个存储单元中实现多位存储功能。利用本发明多位数据存储的操作方法,使得多位存储器件可以极大地提高存储密度,大大地降低了生产成本。
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公开(公告)号:CN101891468A
公开(公告)日:2010-11-24
申请号:CN200910051878.7
申请日:2009-05-22
Applicant: 复旦大学
IPC: C04B35/472 , H01G4/33 , H01L21/02
Abstract: 本发明属微电子技术领域,涉及一种铁电溶液及其薄膜电容制备的方法。本发明在制备先体溶液时,加入一定过量的铅原料,并配合一定的工艺流程,通过过量的铅抵消在制备铁电薄膜时的铅挥发,从而提高铁电薄膜的电学性能。所述前驱液由Pb、Zr、Ti的水解物的聚集物生成Pb1+xZryTi1-yO3(PZT)溶液,通过旋涂淀积在衬底上,后通过干化、热解、高温退火生成钙钛矿晶体结构的铁电薄膜,并在此基础上制作成铁电电容。本方法能克服现有技术中PZT铁电薄膜在高温结晶时发生铅挥发,导致铁电薄膜电学性能下降,使铁电电容的存储性能下降的缺陷,能明显提高铁电存储器(FERAM)的存储特性。
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公开(公告)号:CN101393769B
公开(公告)日:2013-10-16
申请号:CN200810201662.X
申请日:2008-10-23
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明涉及电阻存储器的激活操作方法,属于电阻存储器领域,用于具有激活电压的电阻存储器从初始高阻态向低阻态转换,在所述电阻存储器上,施加使存储介质上的偏置电压低于所述激活电压的脉宽为tf的宽脉冲电信号,其脉宽tf大于电阻存储器均能从初始高阻态向低阻态转变所需时间的上限值tc,以确保阵列中所有电阻存储器均能从高阻值转变为低阻值。本发明提供的激活操作方法具有低电压操作的特点,可以使电阻存储器的驱动电路中不需要电荷泵电路来产生额外的高压,并能避免因激活操作的电压过高而引起存储介质击穿、失去存储性能等问题。
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公开(公告)号:CN101882463B
公开(公告)日:2013-02-27
申请号:CN200910221812.8
申请日:2009-11-11
Applicant: 复旦大学
IPC: G11C11/22
Abstract: 本发明属微电子技术领域,涉及一种多位铁电存储器及其电压施加方法。本发明利用铁电薄膜材料只有在外电场达到矫顽场时电畴才会发生极化反转的特性,构建一层凹凸有致具有多种不同厚度的台阶状铁电薄膜材料,每一阶台阶对应一种厚度,进而分别对应一定的矫顽电压,通过施加不同的外电压来极化反转相应台阶厚度的铁电薄膜。可以在单个存储单元中通过组合不同台阶厚度的铁电薄膜来实现多位数据存储功能。采用本发明方法加工的多位存储器件可以极大地提高存储密度,降低生产成本。
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公开(公告)号:CN102005383A
公开(公告)日:2011-04-06
申请号:CN200910195106.0
申请日:2009-09-03
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L21/314 , H01L21/3105 , H01L27/10
Abstract: 本发明属于微电子技术领域,涉及一种赝反铁电薄膜的制备方法。它通过一定剂量和能量的氢离子注入掺杂,在铁电薄膜中形成一种稳定分布的掺杂离子,通过电荷补偿模式改变铁电薄膜畴的翻转特性。通过本发明方法,能够在任意成份比例的铁电薄膜中实现薄膜的反铁电特性,能在高密度电荷存储领域有所应用。本发明方法不仅提供了新的赝反铁电薄膜的制备方法,同时也有利于铁电薄膜电畴翻转物理机制的进一步深入研究,在学术上有着重大的意义。
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公开(公告)号:CN101882463A
公开(公告)日:2010-11-10
申请号:CN200910221812.8
申请日:2009-11-11
Applicant: 复旦大学
IPC: G11C11/22
Abstract: 本发明属微电子技术领域,涉及一种多位铁电存储器及其电压施加方法。本发明利用铁电薄膜材料只有在外电场达到矫顽场时电畴才会发生极化反转的特性,构建一层凹凸有致具有多种不同厚度的台阶状铁电薄膜材料,每一阶台阶对应一种厚度,进而分别对应一定的矫顽电压,通过施加不同的外电压来极化反转相应台阶厚度的铁电薄膜。可以在单个存储单元中通过组合不同台阶厚度的铁电薄膜来实现多位数据存储功能。采用本发明方法加工的多位存储器件可以极大地提高存储密度,降低生产成本。
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公开(公告)号:CN101393769A
公开(公告)日:2009-03-25
申请号:CN200810201662.X
申请日:2008-10-23
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明涉及电阻存储器的激活操作方法,属于电阻存储器领域,用于具有激活电压的电阻存储器从初始高阻态向低阻态转换,在所述电阻存储器上,施加使存储介质上的偏置电压低于所述激活电压的脉宽为tf的宽脉冲电信号,其脉宽tf大于电阻存储器均能从初始高阻态向低阻态转变所需时间的上限值tc,以确保阵列中所有电阻存储器均能从高阻值转变为低阻值。本发明提供的激活操作方法具有低电压操作的特点,可以使电阻存储器的驱动电路中不需要电荷泵电路来产生额外的高压,并能避免因激活操作的电压过高而引起存储介质击穿、失去存储性能等问题。
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公开(公告)号:CN102013453A
公开(公告)日:2011-04-13
申请号:CN200910195208.2
申请日:2009-09-04
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明属于微电子技术领域,涉及一种具有高热释电性能的反铁电薄膜制备方法。本发明利用反铁电薄膜在某一临界厚度以下显示铁电性而在此临界厚度以上显示反铁电性的特征,构建一层凹凸有致具有多种不同厚度的台阶状反铁电薄膜,每一阶台阶对应一种厚度,可以在单层反铁电薄膜上实现铁电区域和反铁电区域的交叉排列。由于反铁电薄膜和铁电薄膜堆叠后,薄膜的热释电系数相比单纯的反铁电薄膜会得到很大的提高,因此利用本方法制备的反铁电薄膜可以作为良好的热释电材料,用于红外热释电探测器,机敏器件和系统,且制备方法简单易操作,具有很大的成本优势。
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