低RA窄基底修改的双磁性隧道结结构

    公开(公告)号:CN116997966A

    公开(公告)日:2023-11-03

    申请号:CN202280021560.8

    申请日:2022-02-24

    Abstract: 提供了一种修改的双磁性隧道结(mDMTJ)结构,其包括窄基底和对自旋扩散层(即,非磁性的自旋导电金属层)的使用,该自旋扩散层针对隧道势垒层提供低电阻面积乘积(RA),该隧道势垒层与自旋扩散层形成界面。

    使用籽晶工程的具有增强磁性的MRAM结构

    公开(公告)号:CN118435729A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202280075677.4

    申请日:2022-11-09

    Abstract: 提供了一种存储器结构,即磁阻随机存取存储器(MRAM)结构,其包括接种区,该接种区至少包括位于化学模板层下方的隧道势垒籽晶层,该隧道势垒籽晶层比位于化学模板层上的磁性隧道结(MTJ)结构更宽。再沉积的金属材料位于所述籽晶区域的隧道势垒籽晶层的至少侧壁上,以便对所述结构的该区域进行分流。该存储器结构具有减小的电阻,具有最小的隧道磁阻(TMR)损失代价。

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