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公开(公告)号：CN118961325A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202410885825.X
申请日：2024-07-03
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
Abstract: 本发明公开了一种金属镱的显微组织显示方法，属于物理测试技术领域。本发明以甲醇+乙二醇+硝酸的混合溶液为电解液，以金属镱样品为阳极，以不锈钢板作为阴极，在1V～6V的电压下为对样品进行覆膜，在偏振光显微镜下观察，制备的样品晶界轮廓明显、不同晶粒取样的晶粒在偏振光下呈现不同的颜色。本发明有效解决了金属镱样品显微组织难以真实显现的问题，为后续开展金属镱显微技术研究、产品质量控制提供了较好的技术支撑。本发明腐蚀剂配方均为实验室常见试剂，腐蚀方法简便高效、复现性好、经济实用。
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公开(公告)号：CN115436134B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202211164138.6
申请日：2022-09-23
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
Abstract: 本发明属于金相分析测试技术领域，尤其涉及一种高纯钇靶材的金相组织表征方法。本发明通过特定比例的方法对钇靶材进行处理，突破了金相样品制备需经过“取样→镶嵌→磨制→抛光→腐蚀”五步的传统工艺，镶嵌、磨制后直接腐蚀，即可制得衬度良好、晶界轮廓明显、晶粒形貌清晰，便于显微镜下观察分析的钇靶材金相试样，所述工艺流程简便高效，并有效填补了高纯钇靶材的金相制样技术空白，所得到的金相组织，可为优化钇靶材的锻压、轧制变形等生产工艺奠定基础。
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公开(公告)号：CN118817678A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410885828.3
申请日：2024-07-03
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
IPC: G01N21/84 , G01N23/2251 , G01N23/2202 , G01N1/28 , G01N1/32 , G01N1/42
Abstract: 本发明公开了一种集成电路用高纯金属镧溅射靶材的低温金相腐蚀方法，属于物理测试技术领域。本发明方法包括取样、磨制、配制低温冷却液、配制化学抛光/腐蚀液、低温预处理、低温抛光/腐蚀和微观组织分析的步骤。本发明截取镧靶材试样，采用不镶嵌直接研磨的方式，以无水乙醇作为磨样冷却及润滑液；在液氮/乙醇浴的低温氛围中，利用浓硫酸+乙酸+磷酸+乙二醇单乙醚+硝酸混合溶液的化学抛光及腐蚀作用，进行低温化学抛光/腐蚀，获得微观组织显示清晰、晶粒轮廓明显的镧靶材微观组织观测用样品。本发明通过低温抑制镧靶材活性及反应速率，有效解决了镧靶材化学活性高、金相抛光/腐蚀过程中表面的氧化严重及过腐蚀等问题。
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公开(公告)号：CN115112460A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210820265.0
申请日：2022-07-13
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
Abstract: 本发明公开了一种难熔高熵合金显微组织样品的快速制备方法，属于显微组织分析测试技术领域。该方法采用机械加工方式制备难熔高熵合金样品，依次采用从粗到细的砂纸进行逐级研磨，每级研磨均朝同一方向磨制，下一级将样品转动45°‑135°，直至将上一级划痕去除；用水冲洗干净并吹干；将试样磨制面浸入至化学抛光液中，化学抛光液由硫酸、氢氟酸和硝酸组成，进行化学抛光至表面磨痕完全去除；将试样用去离子水冲洗干净、吹干后在显微镜下观察。本发明获得的难熔高熵合金材金相样品显微组织清晰真实，无假象，为后续开展难熔高熵合金显微技术研究、产品质量控制提供了较好的技术支撑，且制样工艺简单，高效，复现性高。
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公开(公告)号：CN105241694B
公开(公告)日：2019-01-25
申请号：CN201410281125.6
申请日：2014-06-20
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
Abstract: 本发明属于金相分析测试技术领域的一种铅铋合金的金相制样方法。本发明的方法采用铅铋合金作为实验样品，采用线切割方法将试样切割成10mm×10mm×10mm大小的样品；然后将样品依次在120#、220#、500#、1000#、2400#SiC水砂纸上逐级研磨，每级应朝同一方向磨制，下一级将样品转动90°，直至将上一道划痕去除；将研磨后的样品放入装有高氯酸和冰醋酸混合溶液的电解液的电解槽内进行电解；将电解后的样品直接在显微镜下观察。本发明方法操作简单、方便；获得的样品变形层完全去除，可得到真实的显微组织；试验样品经电解后直接出来组织，无需再腐蚀。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117968587A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202410099204.9
申请日：2024-01-24
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
IPC: G01B15/00
Abstract: 一种精确测量氧化石墨烯层间距的方法，是将一定比例的单晶硅粉(光谱纯)与氧化石墨烯粉末混合，对混合粉体进行X射线衍射分析，分别获得氧化石墨烯(002)衍射晶面衍射峰和硅(111)衍射晶面衍射峰，通过硅(111)衍射晶面衍射峰的校正值获得氧化石墨烯(002)衍射晶面衍射角2θCj，通过布拉格公式，即可获得氧化石墨烯层间距；该方法在氧化石墨烯晶体结构特点基础上，可提高测量结果准确性，真实反映氧化石墨烯层间距大小，为其应用提供科学依据和指导。
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公开(公告)号：CN116735310B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202310669525.3
申请日：2023-06-07
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
Abstract: 本发明公开了一种硒化锌多晶陶瓷材料的金相制样方法，属于金相分析测试技术领域。该方法采用环氧树脂对硒化锌多晶陶瓷样品进行镶嵌；将镶嵌后的样品在不同粒度的碳化硅水砂纸上由粗到细依次磨制，每换一次砂纸，样品需转动45‑135°，直至将上一级划痕完全去除；先后采用2.5μm、1.0μm的金刚石抛光剂对样品进行抛光，至试样表面磨痕完全去除；将浓盐酸试剂加热至沸腾，采用浓盐酸蒸汽腐蚀试样表面5‑20s，利用浓盐酸蒸汽对抛光态硒化锌试样表面的活化作用，以及HCl分子对硒化锌多晶陶瓷材料晶界的优先化学溶解作用，使微观组织充分显示出来。该方法工艺简便高效、复现性好，制备的金相样品微观组织显示清晰、晶粒轮廓明显。
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公开(公告)号：CN116106349A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202211576522.7
申请日：2022-12-09
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
IPC: G01N23/2251 , G01N23/203 , G01N23/2202 , G01N1/28 , G01N1/32
Abstract: 一种用于两相钛合金相比例分析的测试方法，将钛合金用导电镶料镶嵌成圆柱型样品，首先采用由粗到细的砂纸，进行不同道次的水磨处理，然后采用金刚石抛光液进行抛光处理，将抛光后的试样清洗干净，表面光亮；采用侵蚀剂对样品表面进行侵蚀处理，冲洗干净；然后放入扫描电镜中拍摄背散射电子图像，将背散射电子图像导入图像分析软件，自动识别，自动分割，并计算，得到两相的比例；该方法对于两相钛合金样品的相分析研究，相对于XRD分析和EBSD分析具有操作简单便捷，易控制，结果直观，准确度高等优点，适用于具有两种相结构的合金。
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公开(公告)号：CN115184112A
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN202210820271.6
申请日：2022-07-13
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
Abstract: 本发明公开了一种锇靶材显微组织样品的制备方法，属于金相分析测试技术领域。该方法采用树脂对锇靶材样品进行冷镶嵌；将镶嵌后的样品在不同粒度的金刚石磨盘上由粗到细依次磨制，每换一次磨盘，样品转动一定角度，直至将上一级划痕去除；对研磨后的样品用小于5μm的金刚石抛光剂抛光，直至试样表面磨痕去除，呈镜面时为止；采用氢氧化钠、铁氰化钾和水混合组成的浸蚀剂对样品进行浸蚀；将浸蚀后的样品在去离子水下冲洗干净、吹干后在显微镜下观察。本发明获得的锇靶材金相样品晶粒形貌清晰、晶界轮廓明显，为后续开展锇靶材显微技术研究、产品质量控制提供了较好的技术支撑，且制样工艺简单，操作安全、便捷，复现性高。
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公开(公告)号：CN115184112B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202210820271.6
申请日：2022-07-13
Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司
Abstract: 本发明公开了一种锇靶材显微组织样品的制备方法，属于金相分析测试技术领域。该方法采用树脂对锇靶材样品进行冷镶嵌；将镶嵌后的样品在不同粒度的金刚石磨盘上由粗到细依次磨制，每换一次磨盘，样品转动一定角度，直至将上一级划痕去除；对研磨后的样品用小于5μm的金刚石抛光剂抛光，直至试样表面磨痕去除，呈镜面时为止；采用氢氧化钠、铁氰化钾和水混合组成的浸蚀剂对样品进行浸蚀；将浸蚀后的样品在去离子水下冲洗干净、吹干后在显微镜下观察。本发明获得的锇靶材金相样品晶粒形貌清晰、晶界轮廓明显，为后续开展锇靶材显微技术研究、产品质量控制提供了较好的技术支撑，且制样工艺简单，操作安全、便捷，复现性高。
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