一种集成电路用高纯金属镧溅射靶材的低温金相腐蚀方法

    公开(公告)号:CN118817678A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410885828.3

    申请日:2024-07-03

    Abstract: 本发明公开了一种集成电路用高纯金属镧溅射靶材的低温金相腐蚀方法,属于物理测试技术领域。本发明方法包括取样、磨制、配制低温冷却液、配制化学抛光/腐蚀液、低温预处理、低温抛光/腐蚀和微观组织分析的步骤。本发明截取镧靶材试样,采用不镶嵌直接研磨的方式,以无水乙醇作为磨样冷却及润滑液;在液氮/乙醇浴的低温氛围中,利用浓硫酸+乙酸+磷酸+乙二醇单乙醚+硝酸混合溶液的化学抛光及腐蚀作用,进行低温化学抛光/腐蚀,获得微观组织显示清晰、晶粒轮廓明显的镧靶材微观组织观测用样品。本发明通过低温抑制镧靶材活性及反应速率,有效解决了镧靶材化学活性高、金相抛光/腐蚀过程中表面的氧化严重及过腐蚀等问题。

    一种金属镱的显微组织显示方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118961325A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202410885825.X

    申请日:2024-07-03

    Abstract: 本发明公开了一种金属镱的显微组织显示方法,属于物理测试技术领域。本发明以甲醇+乙二醇+硝酸的混合溶液为电解液,以金属镱样品为阳极,以不锈钢板作为阴极,在1V~6V的电压下为对样品进行覆膜,在偏振光显微镜下观察,制备的样品晶界轮廓明显、不同晶粒取样的晶粒在偏振光下呈现不同的颜色。本发明有效解决了金属镱样品显微组织难以真实显现的问题,为后续开展金属镱显微技术研究、产品质量控制提供了较好的技术支撑。本发明腐蚀剂配方均为实验室常见试剂,腐蚀方法简便高效、复现性好、经济实用。

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