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公开(公告)号：CN113510612A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110527192.1
申请日：2021-05-14
申请人： 嘉兴星微纳米科技有限公司
IPC分类号： B24B37/16 , B24B37/005 , B24B57/02 , H01L21/304
摘要： 本发明涉及半导体研磨技术领域，公开了一种半导体游离研磨装置和半导体研磨方法。其中，所述半导体游离研磨装置包括：研磨盘，其上端面设有多个直径不同的环状凹槽，每个环状凹槽均对应连接有至少一条排液通道；环状凹槽远离研磨盘中心的一侧设有斜面；流量控制结构，用于打开和关闭排液通道。通过上述技术方案，通过在研磨盘的上表面设置环状凹槽，利用环状凹槽储存研磨液，减少研磨液的损失。在环状凹槽远离研磨盘中心的一侧设置了斜面。基于所述斜面的设置，在研磨盘旋转时，基于离心力的作用，其能够引导研磨液流向研磨盘的表面，进一步地提高研磨盘与半导体之间的研磨压力，提高研磨效率和产品质量。
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公开(公告)号：CN113183023A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110529047.7
申请日：2021-05-14
申请人： 嘉兴星微纳米科技有限公司
摘要： 本发明涉及半导体制造技术领域，公开了一种半导体晶圆研磨设备，包括研磨片、研磨框、研磨盘、夹紧装置、驱动装置；研磨片设置在研磨框上方；研磨框内设有研磨盘，研磨盘由电机驱动旋转，研磨盘顶面上设置有至少一个夹紧装置；夹紧装置包括发条弹簧钢片、夹紧橡胶、中心轴、托盘、底座、位移适应结构；夹紧橡胶设置在的发条弹簧钢片靠近涡状中心的侧边上，底座位于发条弹簧钢片的涡状中心内，通过位移适应结构与研磨盘移动连接，中心轴的底面在托盘顶面固定连接；托盘可旋转地套设在中心轴上。通过上述技术方案的设置，将晶圆固定在夹紧装置上，夹持力道大，固定稳定；能够夹持不同尺寸的晶圆，换型方便；放置和取出晶圆的操作均十分快捷方便。
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公开(公告)号：CN113183023B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202110529047.7
申请日：2021-05-14
申请人： 嘉兴星微纳米科技有限公司
摘要： 本发明涉及半导体制造技术领域，公开了一种半导体晶圆研磨设备，包括研磨片、研磨框、研磨盘、夹紧装置、驱动装置；研磨片设置在研磨框上方；研磨框内设有研磨盘，研磨盘由电机驱动旋转，研磨盘顶面上设置有至少一个夹紧装置；夹紧装置包括发条弹簧钢片、夹紧橡胶、中心轴、托盘、底座、位移适应结构；夹紧橡胶设置在的发条弹簧钢片靠近涡状中心的侧边上，底座位于发条弹簧钢片的涡状中心内，通过位移适应结构与研磨盘移动连接，中心轴的底面在托盘顶面固定连接；托盘可旋转地套设在中心轴上。通过上述技术方案的设置，将晶圆固定在夹紧装置上，夹持力道大，固定稳定；能够夹持不同尺寸的晶圆，换型方便；放置和取出晶圆的操作均十分快捷方便。
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公开(公告)号：CN111633563B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202010540873.7
申请日：2020-06-15
申请人： 衢州学院 , 嘉兴星微纳米科技有限公司
IPC分类号： B24B57/02 , C09G1/02 , H01L21/306
摘要： 本发明涉及抛光领域，公开了一种抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法。其中，所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道；所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接，另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部；所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外；所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构，所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合，以形成抛光介质。通过上述技术上方案，能够制备满足高效率抛光和高品质抛光的抛光介质。
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公开(公告)号：CN111633563A
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN202010540873.7
申请日：2020-06-15
申请人： 衢州学院 , 嘉兴星微纳米科技有限公司
IPC分类号： B24B57/02 , C09G1/02 , H01L21/306
摘要： 本发明涉及抛光领域，公开了一种抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法。其中，所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道；所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接，另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部；所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外；所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构，所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合，以形成抛光介质。通过上述技术上方案，能够制备满足高效率抛光和高品质抛光的抛光介质。
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公开(公告)号：CN110193777A
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201910490838.6
申请日：2019-06-06
申请人： 嘉兴星微纳米科技有限公司
摘要： 本发明涉及磨削加工领域，特别涉及一种研磨垫。所述研磨垫包括垫体和填充物，所述填充物包括粘合剂和磨料；所述粘合剂包括具有粘弹性的材料制成，所述垫体上至少部分附着有所述填充物。相对于现有技术，利用粘弹性材料来粘合磨料并将混合的填充物设置在研磨垫的垫体上，融合了固着磨粒研磨和游离磨粒研磨的优点，提高了加工效率，减少了工件表面的损伤；提高研磨精度。
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公开(公告)号：CN113400189A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110802742.6
申请日：2021-07-15
申请人： 嘉兴星微纳米科技有限公司
摘要： 本发明涉及半导体加工制造领域，公开了一种研磨垫和研磨垫制备方法。其中，所述研磨垫包括磨粒、溶剂以及具有纤维状结构的基材；所述磨粒均匀悬浮在所述溶剂中；所述溶剂和所述磨粒填充在所述基材的空隙中，所述溶剂由具有胀塑性流体特性的材料构成。相对于现有技术，本发明的技术方案能够通过让溶剂在研磨过程中，对剪切力产生响应，对磨粒的夹持力进行增减控制，融合了固着磨粒研磨和游离磨粒研磨的的优点，提高了硬、脆型材料的研磨效率，减少了材料表面损伤，同时具有低成本，无污染的优点。
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公开(公告)号：CN212553248U
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN202021103179.0
申请日：2020-06-15
申请人： 衢州学院 , 嘉兴星微纳米科技有限公司
摘要： 本实用新型涉及抛光领域，公开了一种抛光介质制备装置和机械化学抛光设备。其中，所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道；所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接，另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部；所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外；所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构，所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合，以形成抛光介质。通过上述技术方案，能够有效提高半导体材料的机械化学抛光效率和加工后的材料表面的精度。
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