一种提升真空渗碳效率的稀土注入处理方法

    公开(公告)号:CN106868466B

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201710057142.5

    申请日:2017-01-23

    Abstract: 本发明提供的是一种提升真空渗碳效率的稀土注入处理方法。在真空渗碳之前,先对基材进行稀土铈离子注入处理,在基材表面形成50‑70nm厚的铈离子稀土注入层,再进行真空渗碳热处理。本发明利用稀土注入产生晶格畸变及稀土微合金化作用,来提高真空渗碳效率,降低渗碳温度、改善渗碳层质量。相比于现有稀土混合催渗剂的制备方法,本发明所采用的离子注入技术具有操作简单、无残渣、渗碳过程中无需分段控制碳势等优点,可在真空渗碳炉内完成催渗反应,且渗碳后渗层中碳化物细小、分布均匀,可实现渗碳温度的降低与速率的提升。

    一种基于因瓦效应的FeNiCo系合金熔覆涂层材料

    公开(公告)号:CN109023348A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201810958669.X

    申请日:2018-08-22

    CPC classification number: C23C24/106 C22C30/00 C22C38/105

    Abstract: 本发明提供一种基于因瓦效应的FeNiCo系合金熔覆涂层材料,包括Fe、Ni、Co和强化元素组成;所述Fe的含量为40‑48wt%,Ni的含量为25‑30wt%,Co的含量为18‑23wt%;所述强化元素的含量为3‑10wt%。本发明提供的一种FeNiCo系的低膨胀低应力的熔覆专用材料,该熔覆材料经过激光熔覆后形成的涂层具有低的膨胀系数、低的残余应力和良好的耐蚀、耐磨或抗氧化性能,并且借助其独特的因瓦效应,解决熔覆涂层因涂层材料和基体材料因热膨胀差异导致热应力开裂的问题,是一种具有高应用价值的熔覆涂层材料。

    一种降温增速的真空渗碳方法

    公开(公告)号:CN110042339B

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN201910487218.7

    申请日:2019-06-05

    Abstract: 一种降温增速的真空渗碳方法,本发明属于热处理及表面工程领域,它为了解决现有真空渗碳技术中存在的渗碳温度高、渗碳周期长等问题。降温增速的真空渗碳处理方法:一、对基材依次进行表面抛光和清洗处理;二、将稀土氧化物粉末与硬质陶瓷粉末混合,得到混合粉末,将基材设置在超音速微粒轰击设备枪头下方,利用混合粉末进行超音速微粒轰击处理,控制喷射速度为300~1200m/s,得到带有纳米‑稀土改性层的基材;三、带有纳米‑稀土改性层的基材放入真空渗碳炉中,炉内抽真空,加热至渗碳温度进行真空渗碳处理。相比于普通的真空渗碳,本发明所采用的复合强化技术可以降低渗碳温度提升真空渗碳效率,缩短渗碳周期且渗层表面硬度更高。

    基于多场辅助调控的形状记忆合金复杂结构的快速成形方法

    公开(公告)号:CN108296484B

    公开(公告)日:2019-11-08

    申请号:CN201810090856.0

    申请日:2018-01-30

    Abstract: 基于多场辅助调控的形状记忆合金复杂结构的快速成形方法,本发明属于形状记忆合金领域,它为了解决现有熔炼、铸造等传统形状记忆合金结构制备方法工艺复杂、增材效率较低的问题。快速成形方法:一、形状记忆合金粉末材料匹配;二、利用三维画图软件构建结构件模型,然后导入到增材路径规划软件中,规划出整个结构件模型的增材路径;三、将基板、超声波发生器和磁场发生器放入保护仓内,等离子弧枪头按照增材规划路径进行结构件的增材成形,增材过程中施加磁场和/或超声波场辅助成形;四、对增材完成的结构件进行热处理。本发明通过多场辅助和等离子弧增材制造,实现形状记忆合金及其结构件的功能结构一体化快速成形。

    用于水下激光修复铜基金属的复合涂层材料及制备方法

    公开(公告)号:CN108707895A

    公开(公告)日:2018-10-26

    申请号:CN201810622272.3

    申请日:2018-06-15

    Abstract: 本发明提供一种用于水下激光修复铜基金属的复合涂层材料及制备方法,由62‑64wt.%的Cu、7‑9wt.%的Al、3‑4wt.%的Fe、4‑5wt.%的Ni、2‑4wt.%的Mn、11‑12wt.%的Mo、1‑2wt.%的Si、1‑1.5wt.%的B和2.5‑3wt.%的CaF2组成。本发明所述的用于水下激光在线修复铜合金受损表面的专用复合涂层材料及其制备方法工艺简单,所用材料成本低廉;本发明所述的工艺方法易于实现自动化,且此种耗材形式非常适用于水下环境,其原因在于此种耗材的优异熔前防水性能;用于水下激光在线修复铜合金受损表面的专用复合涂层材料能够较好的起到激光加工过程排水和合金化作用,有利于实现水下原位激光熔覆;用于水下激光在线修复铜合金受损表面的专用复合涂层材料能够改善铜合金在水环境下成形质量差的不足。

    用于水下激光修复铜基金属的复合涂层材料及制备方法

    公开(公告)号:CN108707895B

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN201810622272.3

    申请日:2018-06-15

    Abstract: 本发明提供一种用于水下激光修复铜基金属的复合涂层材料及制备方法,由62‑64wt.%的Cu、7‑9wt.%的Al、3‑4wt.%的Fe、4‑5wt.%的Ni、2‑4wt.%的Mn、11‑12wt.%的Mo、1‑2wt.%的Si、1‑1.5wt.%的B和2.5‑3wt.%的CaF2组成。本发明所述的用于水下激光在线修复铜合金受损表面的专用复合涂层材料及其制备方法工艺简单,所用材料成本低廉;本发明所述的工艺方法易于实现自动化,且此种耗材形式非常适用于水下环境,其原因在于此种耗材的优异熔前防水性能;用于水下激光在线修复铜合金受损表面的专用复合涂层材料能够较好的起到激光加工过程排水和合金化作用,有利于实现水下原位激光熔覆;用于水下激光在线修复铜合金受损表面的专用复合涂层材料能够改善铜合金在水环境下成形质量差的不足。

    一种降温增速的真空渗碳方法

    公开(公告)号:CN110042339A

    公开(公告)日:2019-07-23

    申请号:CN201910487218.7

    申请日:2019-06-05

    Abstract: 一种降温增速的真空渗碳方法,本发明属于热处理及表面工程领域,它为了解决现有真空渗碳技术中存在的渗碳温度高、渗碳周期长等问题。降温增速的真空渗碳处理方法:一、对基材依次进行表面抛光和清洗处理;二、将稀土氧化物粉末与硬质陶瓷粉末混合,得到混合粉末,将基材设置在超音速微粒轰击设备枪头下方,利用混合粉末进行超音速微粒轰击处理,控制喷射速度为300~1200m/s,得到带有纳米-稀土改性层的基材;三、带有纳米-稀土改性层的基材放入真空渗碳炉中,炉内抽真空,加热至渗碳温度进行真空渗碳处理。相比于普通的真空渗碳,本发明所采用的复合强化技术可以降低渗碳温度提升真空渗碳效率,缩短渗碳周期且渗层表面硬度更高。

    合金钢材表面真空渗碳与离子注入复合强化处理方法

    公开(公告)号:CN108179375A

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201810091530.X

    申请日:2018-01-30

    CPC classification number: C23C8/26 C23C14/48

    Abstract: 合金钢材表面真空渗碳与离子注入复合强化处理方法,本发明属于表面工程技术领域,它为了解决现有真空渗碳工艺得到的渗层表面硬度略低、耐磨耐蚀性能较差的问题。复合强化处理方法:一、砂纸打磨合金钢基材;二、采用脉冲模式进行真空渗碳处理;三、对合金钢基材进行热处理;四、砂纸打磨合金钢基材,抛光后清洗;五、采用Ti靶并注入N2气进行Ti和N双元素的离子注入处理。本发明利用金属Ti离子及非金属N离子注入过程中产生的晶格畸变及真空渗碳层表面较高的碳浓度与注入离子间的合金化作用,以提高真空渗碳层表面硬度,改善渗碳层耐磨耐蚀性能,相对于相同厚度的真空渗碳层,表层硬度提高35%,摩擦系数降低24.1%。

    一种加快真空渗碳速率的表面纳米化方法

    公开(公告)号:CN108179374A

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201810089775.9

    申请日:2018-01-30

    CPC classification number: C23C8/22 C21D1/18 C21D6/04 C21D7/06 C23C8/02 C23C8/80

    Abstract: 一种加快真空渗碳速率的表面纳米化方法,本发明属于热处理及表面工程领域,它为了解决现有真空渗碳技术中存在的渗层组织不均匀、渗碳周期长的问题。表面纳米化方法:一、基体材料丙酮清洗后打磨并抛光;二、将基体材料装夹到夹具中;三、装夹有基体材料的夹具置于超音速微粒轰击装置内进行表面纳米化处理;四、采用循环脉冲模式对表面纳米化改性的基体材料进行真空渗碳处理;五、对基体材料进行热处理。本发明经表面纳米化“催渗”处理后进行真空渗碳热处理的样品在渗层组织上碳化物级别降低,更为细小弥散,并在渗碳速度上有明显提高,采用表面纳米化催渗的真空渗碳速度要比普通真空渗碳速度提高24%左右。

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