摩擦纳米发电机用摩擦层表面粗糙化契合结构的制备方法

    公开(公告)号:CN107623459B

    公开(公告)日:2019-04-23

    申请号:CN201710801536.7

    申请日:2017-09-07

    Abstract: 本发明属于材料的微观表面处理领域,具体涉及一种用于摩擦纳米发电机摩擦材料表面粗糙化的契合结构及其制备方法,所述方法利用简易砂纸模板,将PDMS旋涂到砂纸粗糙表面,剥离后制得带有与砂纸形貌互补图案表面的PDMS薄膜;另一方面将厚度较小的铜膜通过热蒸发镀膜的方法直接蒸镀到砂纸表面,从而制备出复刻有砂纸形貌的表面粗糙的铜摩擦材料。采用本发明所制备摩擦纳米发电机用的正/负电两个摩擦层材料,具有与砂纸形貌互补图案的表面;另具有砂纸形貌图案的表面。更重要的是,采用相同规格的模板制备,表面形貌图案的尺寸大小几乎完全相同,并且形状互补能够完全契合,使得摩擦过程中的实际接触面积更大。

    一种用于提高纳米摩擦发电机性能的PDMS-PTFE薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN109135288A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201810876298.0

    申请日:2018-08-03

    CPC classification number: C08J5/18 C08J3/246 C08J2383/04 C08J2427/18

    Abstract: 本发明公开了一种用于提高纳米摩擦发电机性能的PDMS‑PTFE薄膜及其制备方法,属于摩擦纳米发电技术领域。制备方法为:以重量计,称取聚二甲基硅氧烷(PDMS)预聚物溶于正己烷中,混合搅拌,使两者充分混合均匀;在混合液加入PTFE乳液,并加热搅拌制备混合溶液;将上述混合溶液冷却至室温,加入正硅酸乙酯交联剂,再加入二月桂酸二丁基锡催化剂,常温搅拌制备均匀混合PDMS待固化溶液;再对其进行脱气处理;将上述溶液涂覆至纳米发电机的衬底,固化,将薄膜从衬底剥下,制得PDMS‑PTFE薄膜。本发明提供了一种过程简单、成本低廉、可以用于大规模生产的方法来制备TENG用PDMS‑PTFE透明柔性薄膜,为实现高性能的TENG的材料生产提供了新的方法和思路。

    一种图形化蓝宝石衬底的制备方法

    公开(公告)号:CN102403420B

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201110356968.4

    申请日:2011-11-11

    Abstract: 本发明涉及一种用于氮化物处延生长的图形化蓝宝石衬底的制备方法,本发明方法先在蓝宝石基片上磁控溅射一层铝膜,然后施涂两层光刻胶膜且下层光刻胶具有更好的光敏感性,经曝光、显影形成光刻胶图形,再磁控溅射第二层铝膜,经溶剂浸泡剥离外层铝膜,最后经低温、高温两步热处理形成具有单晶氧化铝膜的图形化蓝宝石衬底。本发明的制备方法工艺简单易行,即克服了干法刻蚀方法易污染、损伤衬底的问题,也克服了湿法刻蚀方法易造成图形失真的问题。

    一种用于提高纳米摩擦发电机性能的PDMS-PTFE透明薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN109135288B

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN201810876298.0

    申请日:2018-08-03

    Abstract: 本发明公开了一种用于提高纳米摩擦发电机性能的PDMS‑PTFE薄膜及其制备方法,属于摩擦纳米发电技术领域。制备方法为:以重量计,称取聚二甲基硅氧烷(PDMS)预聚物溶于正己烷中,混合搅拌,使两者充分混合均匀;在混合液加入PTFE乳液,并加热搅拌制备混合溶液;将上述混合溶液冷却至室温,加入正硅酸乙酯交联剂,再加入二月桂酸二丁基锡催化剂,常温搅拌制备均匀混合PDMS待固化溶液;再对其进行脱气处理;将上述溶液涂覆至纳米发电机的衬底,固化,将薄膜从衬底剥下,制得PDMS‑PTFE薄膜。本发明提供了一种过程简单、成本低廉、可以用于大规模生产的方法来制备TENG用PDMS‑PTFE透明柔性薄膜,为实现高性能的TENG的材料生产提供了新的方法和思路。

    一种基于硅基薄膜衬底制备透明导电薄膜的方法

    公开(公告)号:CN103325888B

    公开(公告)日:2017-02-08

    申请号:CN201310249995.0

    申请日:2013-06-21

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明提供一种基于硅基薄膜衬底制备透明导电薄膜的方法,包括以下几个步骤:步骤A、将靶材装入溅射靶中,将基片洗净后放入基片架上,抽真空,使基片能随基片架在溅射靶材上方直线往复动态沉积,获得薄膜;步骤B、将所述基片加热,并于真空室内通入溅射气体,调节真空室压强。本发明可以通过磁控溅射法在硅基薄膜衬底上低温、低功率制备高质量的透明导电膜。

    一种稀土离子共掺杂的铝硅酸盐新型绿光荧光粉及其制备方法

    公开(公告)号:CN104710982A

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201510115144.6

    申请日:2015-03-16

    Abstract: 本发明提供了一种稀土离子共掺杂的铝硅酸盐(莫来石基质)新型绿光荧光粉及其制备方法,属于发光材料技术领域。新型绿光荧光粉化学组成为aAl2O3﹒bSiO2﹒cCeO2﹒dTb4O7,其中a,b,c,d为摩尔分数,a/b=3/2,0≤c≤2.0%,0≤d≤5.0%,c和d不同时为零。制备方法具体实施步骤为:按化学式中各元素的化学计量比称取原料,充分混合,并在室温下球磨;将球磨充分的样品放入通有还原性气氛的高温管式炉中,在1450~1550℃下煅烧2~6小时;待炉腔冷却至室温,取出样品进行破碎研磨;后续可添加H3BO3助熔剂、水洗或/和SiO2包覆等处理,即可获得所需荧光粉。本发明制备的荧光粉,其结晶性和颗粒表面形貌良好,发光强度高(尤其有优异的热稳定性),适于用作紫外光激发的LED用绿光荧光粉。

    一种基于硅基薄膜衬底制备透明导电薄膜的方法

    公开(公告)号:CN103325888A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201310249995.0

    申请日:2013-06-21

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明提供一种基于硅基薄膜衬底制备透明导电薄膜的方法,包括以下几个步骤:步骤A、将靶材装入溅射靶中,将基片洗净后放入基片架上,抽真空,使基片能随基片架在溅射靶材上方直线往复动态沉积,获得薄膜;步骤B、将所述基片加热,并于真空室内通入溅射气体,调节真空室压强。本发明可以通过磁控溅射法在硅基薄膜衬底上低温、低功率制备高质量的透明导电膜。

    一种图形化蓝宝石衬底的制备方法

    公开(公告)号:CN102403420A

    公开(公告)日:2012-04-04

    申请号:CN201110356968.4

    申请日:2011-11-11

    Abstract: 本发明涉及一种用于氮化物处延生长的图形化蓝宝石衬底的制备方法,本发明方法先在蓝宝石基片上磁控溅射一层铝膜,然后施涂两层光刻胶膜且下层光刻胶具有更好的光敏感性,经曝光、显影形成光刻胶图形,再磁控溅射第二层铝膜,经溶剂浸泡剥离外层铝膜,最后经低温、高温两步热处理形成具有单晶氧化铝膜的图形化蓝宝石衬底。本发明的制备方法工艺简单易行,即克服了干法刻蚀方法易污染、损伤衬底的问题,也克服了湿法刻蚀方法易造成图形失真的问题。

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