公开(公告)号：CN112811937A

公开(公告)日：2021-05-18

申请号：CN202011628204.1

申请日：2020-12-30

Applicant: 哈尔滨工业大学 ,  北京遥感设备研究所

Inventor： 朱嘉琦 ,  汪新智 ,  程珙 ,  宋志超 ,  刘颖 ,  白一杰 ,  杨磊 ,  胡梦玥 ,  任建华

IPC: C04B41/87

Abstract: 一种氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备方法，它涉及一种高反射防激光膜层的制备方法。本发明要解决现有氮化硅材料对于激光吸收率较高，会产生大量的热量，造成结构破坏的问题。制备方法：一、氮化硅陶瓷表面预处理；二、氧化钛纳米浆料的配制；三、氧化钛涂层的制作。本发明用于氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备。

公开(公告)号：CN112811937B

公开(公告)日：2022-07-08

申请号：CN202011628204.1

申请日：2020-12-30

Applicant: 哈尔滨工业大学 ,  北京遥感设备研究所

Inventor： 朱嘉琦 ,  汪新智 ,  程珙 ,  宋志超 ,  刘颖 ,  白一杰 ,  杨磊 ,  胡梦玥 ,  任建华

IPC: C04B41/87

Abstract: 一种氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备方法，它涉及一种高反射防激光膜层的制备方法。本发明要解决现有氮化硅材料对于激光吸收率较高，会产生大量的热量，造成结构破坏的问题。制备方法：一、氮化硅陶瓷表面预处理；二、氧化钛纳米浆料的配制；三、氧化钛涂层的制作。本发明用于氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备。