公开(公告)号：CN105418077B

公开(公告)日：2017-09-29

申请号：CN201510771261.8

申请日：2015-11-12

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 卢振 ,  黄臻瀚 ,  蒋少松 ,  王重阳

IPC: C04B35/622 ,  C04B35/64 ,  C04B35/10 ,  B28B3/26

Abstract: 一种纳米陶瓷内部三维微细通道的加工方法，涉及一种纳米陶瓷内部三维微细通道的加工方法。本发明是为了解决在陶瓷材料上获得密闭的三维微细通道困难的技术问题。本发明：一、制备纳米陶瓷坯体结构；二、纳米陶瓷坯体结构表面抛光；三、纳米陶瓷坯体结构烘干处理；四、蚀刻制作掩模板；五、喷涂；六、真空塑封；七、冷等静压；八、脱脂处理；九、烧结强化。本发明提出了微细通道形状及精度的控制方法，解决了传统陶瓷微细通道难加工的问题，本发明制备的三维微细通道的宽度可以达到500微米～100纳米。本发明应用于在纳米陶瓷内部加工三维微细通道。

公开(公告)号：CN105418077A

公开(公告)日：2016-03-23

申请号：CN201510771261.8

申请日：2015-11-12

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 卢振 ,  黄臻瀚 ,  蒋少松 ,  王重阳

IPC: C04B35/622 ,  C04B35/64 ,  C04B35/10 ,  B28B3/26

CPC classification number: C04B35/622 ,  B28B3/26 ,  C04B35/10 ,  C04B35/653 ,  C04B2235/602 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/606 ,  C04B2235/612 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/94

Abstract: 一种纳米陶瓷内部三维微细通道的加工方法，涉及一种纳米陶瓷内部三维微细通道的加工方法。本发明是为了解决在陶瓷材料上获得密闭的三维微细通道困难的技术问题。本发明：一、制备纳米陶瓷坯体结构；二、纳米陶瓷坯体结构表面抛光；三、纳米陶瓷坯体结构烘干处理；四、蚀刻制作掩模板；五、喷涂；六、真空塑封；七、冷等静压；八、脱脂处理；九、烧结强化。本发明提出了微细通道形状及精度的控制方法，解决了传统陶瓷微细通道难加工的问题，本发明制备的三维微细通道的宽度可以达到500微米～100纳米。本发明应用于在纳米陶瓷内部加工三维微细通道。