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公开(公告)号：CN117858483A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410060197.1
申请日：2024-01-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种基于螺旋线排布圆环网栅的球罩式电磁屏蔽光窗，属于光学透明电磁屏蔽领域。本发明针对当前球面基底的金属网栅单元结构分布不均匀，导致漏波、成像质量劣化的现状，提出在球面上以圆环为基本单元，呈螺旋状排布构成网栅结构。圆环单元能够均化高级次衍射，实现低旁瓣光学衍射特性，以螺旋线为导向的分布形式可以使圆环网栅在球面上具有更好的位置均匀性。本发明提出的一种基于螺旋线排布圆环网栅的球罩式电磁屏蔽光窗，可以使球罩式光窗表面的不同位置处电磁屏蔽特性与光学透明性都更加均匀稳定。
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公开(公告)号：CN117915644A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202410060196.7
申请日：2024-01-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 一种基于纬线排布圆环的球面网栅结构及其设计方法，属于光学透明电磁屏蔽领域。本发明针对当前球面基底的金属网栅单元结构分布不均匀，导致漏波、成像质量劣化的现状，提出由位于球面上的圆环单元沿纬线分布，相邻圆环单元按相交方式连接构成球面网栅结构。本发明提出的一种基于纬线排布圆环的球面网栅设计方法，可以使圆环网栅结构排布具有更好的位置均匀性，配合圆环单元均化高级次衍射的特性，使球罩式光窗表面的不同位置处电磁屏蔽特性与光学透明性都更加均匀稳定。而且，圆环单元分布的规律性较强，有助于降低球面网栅加工难度。
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公开(公告)号：CN119828418A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411723759.2
申请日：2024-11-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种在曲面光刻圆环微结构阵列的方法和装置，属于激光直写曝光机技术领域。本发明针对现有方法在球面等曲面基底表面上，制造圆环微结构组成的超表面、频率选择表面、金属网栅等应用时，存在加工困难、效率低下问题，提出一种曝光方法和相应的光刻装置。本发明装置的光路结构由空心圆环光束生成部分和空心圆环光束微缩部分组成，将入射的准直光束调制为曝光用空心圆环光束。本发明的曝光方法所调制的曝光光束具有圆环环宽更细、焦深更长、工作距离更长的优势，减少基底高度变化对曝光圆环的影响，降低对机械位移台的定位误差的需求，脉冲式激光束可直接曝光完整的单个圆环，极大地提升曝光效率。
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