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发明公开
一种金属网栅高级次衍射相对强度测量方法审中-实审

公开(公告)号：CN119125206A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202411290279.1

申请日：2024-09-14

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 陆振刚 , 李鸿杰 , 谭久彬 , 王赫岩 , 张怡蕾 , 秦鸿圣

IPC: G01N23/207 , G01N23/2055 , G01N21/47 , G01N21/84

Abstract: 一种金属网栅高级次衍射相对强度测量方法，属于微纳结构光电特性检测领域，该测量方法引入标准金属网栅衍射参考量构建测量传递链，基于双网栅衍射光强测量和比较实现衍射参考量的逐级传递。通过选取双网栅衍射图像当中与衍射参考量相对应的高级次衍射光强，取两者的比值，能够得到相邻级别衍射参考量的比值，实现了不同网栅之间衍射相对强度的之间的量值比较。该测量方法突破了传统光强传感器测量能力的限制，有效地提升了对金属网栅高级次衍射极低相对强度的测量能力，为金属网栅衍射特性的测试提供了可靠的手段。

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