公开(公告)号：CN102568745A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110418872.6

申请日：2011-12-14

Applicant: 同济大学

Inventor： 陆伟 ,  何晨冲 ,  王岗 ,  严彪

IPC: H01F10/16 ,  H01F41/14 ,  C25D9/04

Abstract: 本发明涉及一种电沉积铁钴软磁薄膜的电化学制备方法，属于软磁合金领域。本发明的铁钴软磁薄膜的制备，以石墨板作为阳极，铜片作为阴极，铁的硫酸盐和钴的硫酸盐作为主盐，将基体进行预处理后放置于pH已调至1-5、温度控制为室温—60℃的电镀液中，在恒温电磁搅拌条件下，通过直流稳压电源提供电流进行电镀，镀层厚度通过施镀温度和时间来控制。该铁钴软磁性薄膜的制备工艺简单、成本低廉、反应条件温和可控以及制备效率高等优点。

公开(公告)号：CN102568745B

公开(公告)日：2014-04-02

申请号：CN201110418872.6

申请日：2011-12-14

Applicant: 同济大学

Inventor： 陆伟 ,  何晨冲 ,  王岗 ,  严彪

IPC: H01F10/16 ,  H01F41/14 ,  C25D9/04

Abstract: 本发明涉及一种电沉积铁钴软磁薄膜的电化学制备方法，属于软磁合金领域。本发明的铁钴软磁薄膜的制备，以石墨板作为阳极，铜片作为阴极，铁的硫酸盐和钴的硫酸盐作为主盐，将基体进行预处理后放置于pH已调至1-5、温度控制为室温—60℃的电镀液中，在恒温电磁搅拌条件下，通过直流稳压电源提供电流进行电镀，镀层厚度通过施镀温度和时间来控制。该铁钴软磁性薄膜具有制备工艺简单、成本低廉、反应条件温和可控以及制备效率高等优点。