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公开(公告)号：CN119545629A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202411735093.2
申请日：2024-11-28
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本公开提供了一种X射线发生器和检测设备。其中，该X射线发生器包括：倍压整流电路、至少一个X射线管和射线屏蔽结构。倍压整流电路包括多个输出端。X射线管的阳极与该多个输出端中的第一输出端电连接，X射线管的阴极与该多个输出端中的第二输出端电连接，其中，第一输出端的输出电压高于第二输出端的输出电压。射线屏蔽结构包括封装体，封装体上设置有贯穿的射线出射孔，其中，倍压整流电路和X射线管设置于封装体的内部，其中，封装体具有绝缘性能和射线屏蔽性能。
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公开(公告)号：CN119510456A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411733296.8
申请日：2024-11-28
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/046 , G01V5/22 , G01V13/00 , G02B7/00
Abstract: 本发明提供一种检测设备，包括：检测部件，具有相对的第一侧和第二侧；入口通道部件，设于所述检测部件的第一侧；以及出口通道部件，设于所述检测部件的第二侧；其中，所述检测部件包括：支撑框架限定出检测通道，所述支撑框架为一体成型件；辐射源，设于所述支撑框架；探测器，设于所述支撑框架，且与所述辐射源相对；光栅组件，包括可调光栅，所述可调光栅包括可移动横臂和可移动竖臂，所述可移动横臂设于所述支撑框架的顶壁面，所述可移动竖臂设于所述支撑框架的侧壁面。本发明的检测设备，支撑框架一体成型，支撑框架的安装面具有良好的平面度，有效确保辐射源、探测器和光栅组件安装位置的准确性，进而有利于确保扫描图像的质量。
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公开(公告)号：CN113920208B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202010661255.8
申请日：2020-07-10
Applicant: 同方威视科技江苏有限公司 , 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G06T9/00 , G06V10/762 , G06V10/82 , G06N3/0464 , G06N3/0455 , G06N3/088
Abstract: 本公开实施例提供了一种图像处理方法及装置、计算机可读存储介质和电子设备。该方法包括：获取待测原始图像；编码所述待测原始图像，生成所述待测原始图像的目标特征图；根据正样本原始图像获得与所述目标特征图匹配的第一目标解码向量，所述正样本原始图像为无异常区域的图像；解码所述第一目标解码向量，获得所述待测原始图像的待测生成图像。通过本公开实施例提供的技术方案，通过无异常区域的正样本原始图像来获得待测原始图像的待解码的解码向量，可以更加准确地重构待测原始图像，避免重构待测原始图像的异常区域。
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公开(公告)号：CN119322079A
公开(公告)日：2025-01-17
申请号：CN202411506050.7
申请日：2024-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/203 , G01N23/20008 , G01S17/93 , G01S17/86 , B62D63/02 , G21F3/00
Abstract: 公开一种背散射检查设备，包括：背散射机器人，配置成能够自驱动地移动至待检对象附近以靠近对象，并能够朝向对象发射辐射，并检测从对象反射的辐射，实施对对象的扫描；和辐射防护机器人，配置成能够自驱动地移动到对象的远离背散射机器人的一侧以屏蔽从背散射机器人发射的辐射。对象位于背散射机器人和辐射防护机器人之间。
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公开(公告)号：CN116767826B
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202211698156.2
申请日：2022-12-28
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种推送机构及检测系统，包括：变位装置、驱动装置和引导装置。变位装置包括主板以及可动地设置在主板侧边的推动件；驱动装置与主板连接，用于驱动变位装置移动；引导装置与推动件接触后，可使推动件在第一状态和第二状态之间切换；其中，推动件在第一状态时的最高点高于在第二状态时的最高点。由此，在检测装置对物体进行检测时，推送机构可对物体进行推动并修正位置，在检测失败后，推送机构可进行避让，以使检测机构完成物体退回操作，进而提高检测效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119224019A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202411766788.7
申请日：2024-12-04
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/046 , A61B6/03 , A61B6/42 , A61B6/40
Abstract: 本发明的实施例提供一种CT成像系统的成像方法，涉及辐射扫描技术领域。CT成像系统包括：成像通道；M个分布式射线源，至少一个分布式射线源包括q个靶点；N个探测器；M个分布式射线源中的至少一个分布式射线源包括的q个靶点沿第一直线间隔排列，第一直线相对于第一方向倾斜布置。成像方法包括：将待成像对象置于成像通道中；控制至少一个分布式射线源的q个靶点发出射线束，以形成成像区域；利用至少一个探测器探测从至少一个分布式射线源发出并穿过待成像对象的射线，并根据探测到的射线生成投影数据；根据投影数据生成待成像对象的计算机断层扫描图像。出束时间间隔基于第一直线的延伸方向相对于第一方向倾斜的倾斜角度确定。
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公开(公告)号：CN113131870B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN201911425351.6
申请日：2019-12-31
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 公开了一种对频率进行混频或倍频的装置，包括：金属壳体，所述金属壳体包括盒体和盖体，所述盒体和所述盖体扣合在一起以限定一金属腔体；至少一个变频单元，所述至少一个变频单元包括：微带线，所述微带线位于所述金属腔体内；以及通道结构，所述通道结构包括穿过所述金属壳体并分别与所述微带线耦合的射频信号输入通道、本振信号输入通道和信号输出通道，所述射频信号输入通道所在的平面、所述本振信号输入通道所在的平面和所述信号输出通道所在的平面中的至少两者不共面。该装置装置可以避免射频信号输入通道、本振信号输入通道和信号输出通道存在于同一平面而导致集成度较差的问题。
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公开(公告)号：CN118938043A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411254730.4
申请日：2024-09-06
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01R31/385 , G01R31/378 , G01R31/01 , G01R1/02 , B07C5/344 , B07C5/02
Abstract: 本发明提供了一种电芯检测系统及其检测方法，电芯检测系统包括：输送装置，用于将电芯输送至抓取工位；第一移送装置，沿竖直方向与所述输送装置相对设置，所述第一移送装置包括相连接的第一抓取机构和第一移动机构，所述第一抓取机构用于抓取所述电芯，所述第一移动机构用于将所述电芯由所述抓取工位移送至检测工位，且所述第一移动机构适于将所述电芯的待检测部移动至预设位置；检测装置，设置于所述检测工位，用于对所述电芯的待检测部进行检测。本发明的电芯检测系统，根据检测需求，通过第一移动机构将电芯的任一待检测部移动至预设位置，以对电芯的一个或多个待检测部进行检测，既有利于检测的灵活性，同时有利于提升检测效率。
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公开(公告)号：CN115105110B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202111204463.6
申请日：2021-10-15
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
IPC: A61B6/03 , G01N23/046
Abstract: 本发明涉及用于射线检查的成像系统和方法。一种用于射线检查的成像系统包括：检查区域，包括成像区域；第一射线源组件，其所有第一靶点布置在第一射线源平面内；第一探测器组件，其多个第一探测器单元布置在探测器平面内，探测器平面与第一射线源平面沿被检查对象的行进方向间隔开预定距离；和射线源控制装置，其构造成当被检查对象的感兴趣区域至少部分地位于成像区域中时，使得第一射线源组件在同一时刻从至少两个第一靶点同时向成像区域发射X射线，在第一射线源组件的同时向成像区域发射X射线的至少两个第一靶点中，每个第一靶点的射线发射范围都能够覆盖成像区域，并且任两个第一靶点的射线发射范围对应的第一探测器晶体互相不重合。
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公开(公告)号：CN118768241A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202411254317.8
申请日：2024-09-06
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 提供了一种物料分选系统。该系统包括输送装置、识别装置、喷吹装置、分选组件和出料装置。输送装置用于输送待分选的物料，直至所述物料离开所述输送装置的末端；识别装置用于识别所述输送装置上所述物料的物料信息；喷吹装置用于根据所述物料信息，将离开所述末端的至少部分物料喷吹至对应的分选通道；分选组件限定出承接所述物料的至少两个所述分选通道；出料装置包括至少两个出料设备，其中，所述至少两个出料设备与所述至少两个分选通道一一对应，用于将所述物料输送至远离所述末端的位置。所述分选组件包括缓冲结构，在具有特定物料信息的目标物料离开所述末端后，所述缓冲结构用于通过自身状态的改变来为所述目标物料提供缓冲。
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