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公开(公告)号：CN1959528A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610140406.5
申请日：2006-09-30
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F1/00
CPC classification number: G03F1/36
Abstract: 一种微影光罩及其制造方法与使用上述两者制造的半导体元件包括一个位于独立或半独立区域的设计特征，以及复数个垂直于设计特征的平行线型辅助特征。这些平行线型辅助特征包括位于设计特征两边的两组平行辅助特征。第一组平行辅助特征位于设计特征的第一边上，且垂直于设计特征。第二组平行辅助特征位于设计特征的第二边上，且垂直于设计特征。上述的附加的辅助特征改善了独立及半独立特征结构的焦深与解析度，并降低光罩错误增强因子的产生。
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