微发光元件、微发光二极管及其转印方法

    公开(公告)号:CN115349180A

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN202180001749.6

    申请日:2021-03-12

    摘要: 本发明公开微发光元件,微发光二极管及其转印方法,其中微发光二极管包括半导体外延叠层,包含第一类型半导体层、第二类型半导体层和两者之间的有源层;第一台面,由半导体外延叠层凹陷露出的第一类型半导体层构成,第二台面,由第二类型半导体层构成;侧壁,形成于半导体外延叠层外边缘,位于第一台面和第二台面之间;第一接触电极和第二接触电极,分别形成于第一台面和第二台面之上;第一键合电极和第二键合电极,分别形成于所述第一接触电极和第二接触电极之上;其特征在于:所述侧壁与所述第一台面的夹角为θ1,所述θ1的范围为105°≤θ1≤165°。本发明通过侧壁具有倾斜表面,键合电极跨接台面的设计可提升微发光元件的转移良率。

    一种激光二极管及其制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115021071A

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202210572551.X

    申请日:2020-06-09

    IPC分类号: H01S5/028 H01S5/042

    摘要: 本发明公开了一种激光二极管及其制造方法,在本发明的一个实施例中的激光二极管包括:衬底,所述衬底具有相对的第一表面和第二表面;形成在所述衬底的第一表面的外延层,所述外延层在顶部形成有脊;形成在所述脊的上方的第二电极接触层;形成在所述脊的侧壁及上方的光场包覆层,其折射率为1.3~1.9,所述光场包覆层包括包覆所述脊的侧壁的第一部分及形成在所述脊的上方的第二部分,其中所述光场包覆层的第二部分在所述脊的上表面的面积占比为20%以上。本发明的激光二极管的光场包覆层进一步形成了光场限制,同时可以保护脊的侧壁,防止漏电;增大了出光面的绝缘层的面积,降低出光腔面端的增益,平衡了腔体的电流注入和光场的分布。

    一种微发光二极管外延结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN112204758A

    公开(公告)日:2021-01-08

    申请号:CN202080002983.6

    申请日:2020-03-09

    摘要: 本发明提出一种微LED外延结构,该外延结构至少包括N型层、发光层、P型层。其中发光层包括n个周期的量子阱结构,每一个周期的量子阱结构包括阱层和势垒层,其中n1个周期的量子阱结构定义为第一发光区,n2个周期的量子阱结构定义为第二发光区,n1和n2大于等于1,且n1+n2小于等于n,第一发光区比第二发光区更接近N型层,两组发光区势垒层材料的平均带隙满足以下条件:第一发光区小于第二发光区;两组发光区阱层材料的平均带隙满足以下条件:第一发光区大于等于第二发光区。利用该外延结构制备的微LED,可实现峰值光电转换效率对应电流密度低于1A/cm2,且光电转换效率提升约30%。