一种LED芯片的制备方法以及LED芯片

    公开(公告)号:CN116454188A

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202310457123.7

    申请日:2023-04-25

    Abstract: 本申请提供了一种LED芯片的制备方法以及LED芯片,该方法包括:提供一衬底,在衬底上形成外延结构,在外延结构上形成P电极和N电极,形成P电极包括:以第一蒸镀速率形成第一金层,以第二蒸镀速率形成第二金层,以第三蒸镀速率形成第三金层,形成N电极包括:以第一蒸镀速率形成第四金层,以第二蒸镀速率形成第五金层,以第三蒸镀速率形成第六金层,第二蒸镀速率大于或小于第一蒸镀速率和第三蒸镀速率,使得P电极和N电极中的相邻金层的孔隙错开,尽可能的抑制P电极和N电极的金层中存在贯通整个金层的孔隙,降低盐雾环境中的氯离子进入到电极内部的可能性,提高LED芯片在盐雾环境中的可靠性。

Patent Agency Ranking