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公开(公告)号：CN101632052B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200880008001.3
申请日：2008-03-12
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 野村雅俊
IPC: G05D23/24
CPC classification number: G05D23/2401
Abstract: 本发明描述了一种温控装置，包括：电阻加热器，其特性在于电阻加热器的电阻值根据其温度而改变；信号发生器，输出具有通路电压和第二电压两种电压电平的控制信号；开关部分，当控制信号的电压电平为第一电压时，使第一电流流经电阻加热器，而当控制信号的电压电平为第二电压时，使电流值比第一电流的小的第二电流流经电阻加热器；以及电压测量装置，在第二电流流经电阻加热器时，测量电阻加热器上的电压值，其中信号发生器根据由电压测量装置所测量的电压值来控制电阻加热器的温度。
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公开(公告)号：CN100518922C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200480001972.7
申请日：2004-09-24
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: B01J19/00
CPC classification number: B01J19/0093 , B01J2219/00783 , B01J2219/00835 , B01J2219/00873 , B01J2219/00961 , F28F13/18 , H01M8/04007 , H01M8/0612
Abstract: 一种设置在衬底(41)上的热处理设备，包括发热部分，该发热部分包括：发热层(47a)、接触发热层的一个表面以阻止由于发热层的发热引起的热扩散的扩散阻挡层(47b)、和设置在衬底与扩散阻挡层之间的粘着层(47c)。
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公开(公告)号：CN100447073C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200580000293.2
申请日：2005-03-11
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
CPC classification number: Y02P70/56
Abstract: 本发明公开了一种堆叠结构(1)，通过堆叠和结合多个基板(2)而形成。该堆叠结构包括结合膜(4)，各结合膜被置于相邻玻璃基板(2)之间的结合区域中并且通过阳极结合被结合到基板玻璃中的氧原子上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101632052A
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200880008001.3
申请日：2008-03-12
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 野村雅俊
IPC: G05D23/24
CPC classification number: G05D23/2401
Abstract: 本发明描述了一种温控装置，包括：电阻加热器，其特性在于电阻加热器的电阻值根据其温度而改变；信号发生器，输出具有通路电压和第二电压两种电压电平的控制信号；开关部分，当控制信号的电压电平为第一电压时，使第一电流流经电阻加热器，而当控制信号的电压电平为第二电压时，使电流值比第一电流的小的第二电流流经电阻加热器；以及电压测量装置，在第二电流流经电阻加热器时，测量电阻加热器上的电压值，其中信号发生器根据由电压测量装置所测量的电压值来控制电阻加热器的温度。
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公开(公告)号：CN100511803C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200610172706.1
申请日：2006-12-28
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Abstract: 本发明公开了一种反应装置，其具备：反应装置主体部，其具有第1及第2反应部；容器，其收容所述反应装置主体部；和至少对应于所述第1反应部的第1区域以及对应于所述第2反应部的第2区域，该第1区域及第2区域设置在所述容器中或所述容器的内侧；其中，所述第1反应部设定为比所述第2反应部高的温度，且所述第1区域与所述第2区域相比，对于从所述反应装置主体部辐射的热射线具有更高的反射率。
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公开(公告)号：CN1992411A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200610172706.1
申请日：2006-12-28
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Abstract: 本发明公开了一种反应装置，其具备：反应装置主体部，其具有第1及第2反应部；容器，其收容所述反应装置主体部；和至少对应于所述第1反应部的第1区域以及对应于所述第2反应部的第2区域，该第1区域及第2区域设置在所述容器中或所述容器的内侧；其中，所述第1反应部设定为比所述第2反应部高的温度，且所述第1区域与所述第2区域相比，对于从所述反应装置主体部辐射的热射线具有更高的反射率。
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公开(公告)号：CN1774388A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200580000293.2
申请日：2005-03-11
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
CPC classification number: Y02P70/56
Abstract: 本发明公开了一种堆叠结构(1)，通过堆叠和结合多个基板(2)而形成。该堆叠结构包括结合膜(4)，各结合膜被置于相邻玻璃基板(2)之间的结合区域中并且通过阳极结合被结合到基板玻璃中的氧原子上。
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公开(公告)号：CN1723079A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200480001972.7
申请日：2004-09-24
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: B01J19/00
CPC classification number: B01J19/0093 , B01J2219/00783 , B01J2219/00835 , B01J2219/00873 , B01J2219/00961 , F28F13/18 , H01M8/04007 , H01M8/0612
Abstract: 一种设置在衬底(41)上的热处理设备，包括发热部分，该发热部分包括：发热层(47a)、接触发热层的一个表面以阻止由于发热层的发热引起的热扩散的扩散阻挡层(47b)、和设置在衬底与扩散阻挡层之间的粘着层(47c)。
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