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公开(公告)号：CN100447073C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200580000293.2
申请日：2005-03-11
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
CPC classification number: Y02P70/56
Abstract: 本发明公开了一种堆叠结构(1)，通过堆叠和结合多个基板(2)而形成。该堆叠结构包括结合膜(4)，各结合膜被置于相邻玻璃基板(2)之间的结合区域中并且通过阳极结合被结合到基板玻璃中的氧原子上。
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公开(公告)号：CN1240472C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN03800319.8
申请日：2003-03-19
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
CPC classification number: F28F3/048 , B01J19/0093 , B01J19/249 , B01J2219/00828 , B01J2219/00835 , B01J2219/00873 , C01B3/323 , C01B3/384 , C01B3/48 , C01B2203/0233 , C01B2203/0283 , C01B2203/044 , C01B2203/047 , C01B2203/066 , C01B2203/0811 , C01B2203/0822 , C01B2203/085 , C01B2203/1223 , C01B2203/1288 , C01B2203/82 , F28F13/18 , H01M8/0618 , H01M8/0625 , H01M8/0668 , Y02P20/128
Abstract: 本发明涉及一种化学反应装置，所述化学反应装置包括一个具有一外表面的实体，在其中至少形成有一个允许一化学介质流动的流动通道。所述实体具有一个加热元件，所述加热元件加热在所述流动通道中流动的化学介质，从而加速化学介质的化学反应，以及一个热辐射抑制薄膜，所述热辐射抑制薄膜覆盖所述实体外表面的至少一部分，并且抑制所述加热元件产生的热量从所述外表面的一部分辐射出去。
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公开(公告)号：CN100393409C
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200480003121.6
申请日：2004-08-12
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: B01J19/00
CPC classification number: C03C27/10 , B01J19/0093 , B01J2219/00783 , B01J2219/00828 , B01J2219/00831 , B01J2219/00835 , B01J2219/00867 , B01J2219/00873 , B01L3/5027 , C01B3/323 , C01B2203/0233 , C01B2203/044 , C01B2203/047 , C01B2203/066 , C01B2203/1288 , C03C17/225 , C03C17/3435
Abstract: 一种接合衬底包括：第一衬底(1)、在所述第一衬底之一个表面上形成的缓冲薄膜(2)，在所述缓冲薄膜上形成的并且较其具有较低之电阻值的含有金属的薄膜，以及与所述第一衬底(1)之所述另一表面相结合的第二衬底(4)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1774388A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200580000293.2
申请日：2005-03-11
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
CPC classification number: Y02P70/56
Abstract: 本发明公开了一种堆叠结构(1)，通过堆叠和结合多个基板(2)而形成。该堆叠结构包括结合膜(4)，各结合膜被置于相邻玻璃基板(2)之间的结合区域中并且通过阳极结合被结合到基板玻璃中的氧原子上。
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公开(公告)号：CN1723079A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200480001972.7
申请日：2004-09-24
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: B01J19/00
CPC classification number: B01J19/0093 , B01J2219/00783 , B01J2219/00835 , B01J2219/00873 , B01J2219/00961 , F28F13/18 , H01M8/04007 , H01M8/0612
Abstract: 一种设置在衬底(41)上的热处理设备，包括发热部分，该发热部分包括：发热层(47a)、接触发热层的一个表面以阻止由于发热层的发热引起的热扩散的扩散阻挡层(47b)、和设置在衬底与扩散阻挡层之间的粘着层(47c)。
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公开(公告)号：CN100518922C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200480001972.7
申请日：2004-09-24
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: B01J19/00
CPC classification number: B01J19/0093 , B01J2219/00783 , B01J2219/00835 , B01J2219/00873 , B01J2219/00961 , F28F13/18 , H01M8/04007 , H01M8/0612
Abstract: 一种设置在衬底(41)上的热处理设备，包括发热部分，该发热部分包括：发热层(47a)、接触发热层的一个表面以阻止由于发热层的发热引起的热扩散的扩散阻挡层(47b)、和设置在衬底与扩散阻挡层之间的粘着层(47c)。
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公开(公告)号：CN1744944A
公开(公告)日：2006-03-08
申请号：CN200480003121.6
申请日：2004-08-12
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: B01J19/00
CPC classification number: C03C27/10 , B01J19/0093 , B01J2219/00783 , B01J2219/00828 , B01J2219/00831 , B01J2219/00835 , B01J2219/00867 , B01J2219/00873 , B01L3/5027 , C01B3/323 , C01B2203/0233 , C01B2203/044 , C01B2203/047 , C01B2203/066 , C01B2203/1288 , C03C17/225 , C03C17/3435
Abstract: 一种接合衬底包括：第一衬底(1)、在所述第一衬底之一个表面上形成的缓冲薄膜(2)，在所述缓冲薄膜上形成的并且较其具有较低之阻尼值的含有金属的薄膜，以及与所述第一衬底(1)之所述另一表面相结合的第二衬底(4)。
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公开(公告)号：CN1511062A
公开(公告)日：2004-07-07
申请号：CN03800319.8
申请日：2003-03-19
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
CPC classification number: F28F3/048 , B01J19/0093 , B01J19/249 , B01J2219/00828 , B01J2219/00835 , B01J2219/00873 , C01B3/323 , C01B3/384 , C01B3/48 , C01B2203/0233 , C01B2203/0283 , C01B2203/044 , C01B2203/047 , C01B2203/066 , C01B2203/0811 , C01B2203/0822 , C01B2203/085 , C01B2203/1223 , C01B2203/1288 , C01B2203/82 , F28F13/18 , H01M8/0618 , H01M8/0625 , H01M8/0668 , Y02P20/128
Abstract: 本发明涉及一种化学反应装置，所述化学反应装置包括一个具有一外表面的实体，在其中至少形成有一个允许一化学介质流动的流动通道。所述实体具有一个加热元件，所述加热元件加热在所述流动通道中流动的化学介质，从而加速化学介质的化学反应，以及一个热辐射抑制薄膜，所述热辐射抑制薄膜覆盖所述实体外表面的至少一部分，并且抑制所述加热元件产生的热量从所述外表面的一部分辐射出去。
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