公开(公告)号：CN116324621A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202080104310.1

申请日：2020-08-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 ,  ASML荷兰公司

Inventor： T·格鲁纳 ,  N·巴尔 ,  K·范伯克尔 ,  L·J·A·范博克霍文 ,  M·洛伦兹 ,  T·蒙兹 ,  E·施奈德 ,  H-M·斯蒂潘 ,  B·斯特里夫柯克 ,  A·迪劳夫

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明关于光学系统，特别是用于微光刻，且本发明关于用以操作光学系统的方法。根据本发明一方面，光学系统包含：至少一个反射镜(100,500,600)，其具有光学有效表面(101,501,601)以及反射镜基板(110,510,610)，其中冷却流体能够流动于其中的至少一个冷却通道(115,515,615)配置在反射镜基板中，以消散由于吸收了从光源入射在光学有效表面上的电磁辐射而在反射镜基板中产生的热；以及调整单元(135,535,635)，用以根据将反射镜基板中热负载特征化的测量量值或根据在光源的给定功率下在反射镜基板中所预期的估计热负载，来调整冷却流体的温度和/或流速。

公开(公告)号：CN115997170A

公开(公告)日：2023-04-21

申请号：CN202080104190.5

申请日：2020-08-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 ,  ASML荷兰公司

Inventor： T·格鲁纳 ,  N·巴尔 ,  K·范伯克尔 ,  L·J·A·范博克霍文 ,  M·洛伦兹 ,  T·蒙兹 ,  E·施奈德 ,  H-M·斯蒂潘 ,  B·斯特里夫柯克

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明关于反射镜，特别是用于微光刻投射曝光设备。本发明的反射镜具有光学有效表面(101,201,301)；反射镜基板(110,210,310,410)；反射层系统(120,220,320)，其用以反射入射在光学有效表面(101,201,301)上的电磁辐射；至少一个致动器层，其配置为在反射层系统(120,220,320)上传输可调整机械力，由此产生光学有效表面(101,201,301)的局部可变变形；以及至少一个冷却装置，其配置为至少部分地消散由该致动器层所产生的热。

公开(公告)号：CN116710847A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202180091123.9

申请日：2021-01-19

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 ,  ASML荷兰公司

Inventor： E·施奈德 ,  T·格鲁纳 ,  T·图多罗夫斯基

IPC: G03F7/20

Abstract: 在一种设置用于以图案的至少一个图像曝光辐射敏感衬底的投射曝光系统的方法中，该投射曝光系统包括：照明系统(ILL)，其被配置为在照明场中生成被引导到图案上的照明辐射(ILR)；投射镜头(PO)，其包括多个光学元件，该光学元件被配置为用投射辐射将位于照明场中的图案的一部分投射到衬底处的像场上；测量系统(MS)，其能够测量投射辐射的至少一个属性，该属性代表分布在像场中的多个间隔开的测量点处的像差水平；以及操作控制系统，其包括至少一个操纵器，该操纵器操作地连接至投射曝光系统的光学元件，以基于由测量系统生成的测量结果来修改投射曝光系统的成像特性。该方法包括：在测量点分布计算(MPDC)中确定测量点分布的步骤，该测量点分布定义了待在测量中使用的测量点的数量和位置，其中测量点分布计算(MPDC)在边界条件下执行，该边界条件至少代表：(i)操作控制系统的操纵能力；(ii)测量系统的测量能力；以及(iii)预定义的用例场景，其定义了代表性用例集，其中每个用例对应于由投射曝光系统在预定义的使用条件集下生成的特定像差图案。

公开(公告)号：CN119301297A

公开(公告)日：2025-01-10

申请号：CN202380046138.2

申请日：2023-06-06

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： T·霍夫曼 ,  V·米特夫 ,  E·施奈德 ,  R·马克 ,  J·舒勒-科赫 ,  M·洛伦兹

IPC: C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  C23C14/52 ,  C23C14/54 ,  C23C14/56 ,  G02B5/08 ,  G01B11/06 ,  H01J37/32 ,  H01J37/34 ,  G01N21/84

Abstract: 本发明的目的是为镜面基板(2)涂覆多层涂层，所述多层涂层对于有效波长呈高反射性并且具有数个需要按顺序施加的单层，为此首先按照涂层序列将所述单层中的多个单层施加在镜面基板(2)上，以产生第一部分多层涂层。在至少一个测量位置上测量涂层序列的结果的层厚度。根据所述测量的测量数据调整涂层参数用于接下来的施加步骤。按照进一步的涂层序列，利用被调整的涂层参数将所述单层中的另外的单层施加在镜面基板(2)上，以产生另外的部分多层涂层，从而完成所述多层涂层。能够为此使用的涂覆设备具有镜面基板固持件(6)、至少一个用于涂层材料的涂层源(13、14)、至少一个用于将镜面基板(2)相对于涂层源(13、14)相对移动的驱动器(8)、厚度测量装置(16)以及控制/调节装置(25)，所述控制/调节装置与厚度测量装置(16)和控制单元(26)信号连接，以调整所述涂层参数。由此得到的涂层以高精度实现了所制造的多层涂层的目标表面形状和目标反射率。