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发明公开
判定半导体结构的检测系统和检测方法审中-实审

公开(公告)号：CN112335013A

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201980043490.4

申请日：2019-06-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , 卡尔蔡司显微镜有限责任公司

Inventor： B.路易斯 , W.库恩 , D.夏 , S.麦克维 , U.曼茨

IPC: H01J49/00 , H01J49/14 , G01N27/62 , G01N23/2258 , H01L21/66

Abstract: 一种用来判定半导体结构的检测系统(1)。该检测系统具有离子束源(2)，用于用离子束(3)对要判定的结构进行空间解析展示。进一步，二次离子侦测装置(12)包括质谱仪(13)。该质谱仪(13)能够测量给定带宽内的离子质荷比。

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