公开(公告)号：CN105074574B

公开(公告)日：2017-07-04

申请号：CN201480009868.6

申请日：2014-02-11

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： J.劳夫 ,  I.萨恩格 ,  J.齐默尔曼 ,  D.克雷默 ,  C.亨纳克斯 ,  F.施莱塞纳

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B5/09 ,  G02B26/08 ,  G02B27/00

CPC分类号： G03F7/70158 ,  G02B26/0833 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0933 ,  G02B27/0977 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70316

摘要： 本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a‑d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a‑d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a‑d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a‑d，14a‑d)的分面反射镜(13，14)。

公开(公告)号：CN105074574A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201480009868.6

申请日：2014-02-11

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： J.劳夫 ,  I.萨恩格 ,  J.齐默尔曼 ,  D.克雷默 ,  C.亨纳克斯 ,  F.施莱塞纳

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B5/09 ,  G02B26/08 ,  G02B27/00

CPC分类号： G03F7/70158 ,  G02B26/0833 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0933 ,  G02B27/0977 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70316

摘要： 本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a-d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a-d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a-d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a-d，14a-d)的分面反射镜(13，14)。