-
公开(公告)号：CN105143981B
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201480014883.X
申请日：2014-03-03
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70033 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G21K1/065 , G21K1/067 , G21K1/12
摘要： 一种光学系统具有光源(2)，该光源具有小于0.1mm2的原始光展量，并用于投射光刻的照明系统(5)。光学组件(13)用于同时增加光源(2)的使用发射(12)的光展量。光学组件(13)实施成所述光展量以至少10的因子增加。光学组件(13)的要被入射的部件相对于所述光源(2)移位，使得所述光源(2)的发射(12)在所述光学组件(13)的光学部件上的入射区域随时间变化。
-
公开(公告)号：CN105143981A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201480014883.X
申请日：2014-03-03
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70033 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G21K1/065 , G21K1/067 , G21K1/12
摘要： 一种光学系统具有光源(2)，该光源具有小于0.1mm2的原始光展量，并用于投射光刻的照明系统(5)。光学组件(13)用于同时增加光源(2)的使用发射(12)的光展量。光学组件(13)实施成所述光展量以至少10的因子增加。光学组件(13)的要被入射的部件相对于所述光源(2)移位，使得所述光源(2)的发射(12)在所述光学组件(13)的光学部件上的入射区域随时间变化。
-
公开(公告)号：CN104718500B
公开(公告)日：2018-11-20
申请号：CN201380054067.7
申请日：2013-10-22
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要： 一种产生用于投射光刻的投射曝光设备(1)的EUV照明光的可用输出光束(3)的EUV光源(2)。该光源(2)具有产生EUV原始输出光束的EUV产生装置(2c)。该EUV原始输出光束为圆形偏振。为了设定可用输出光束(3)的偏振，相对于偏振方向，偏振设定装置(32；39)对原始输出光束具有线性偏振效果。这导致提供改进的输出光束以用于分辨率最优照明的EUV光源。
-
公开(公告)号：CN105074574B
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201480009868.6
申请日：2014-02-11
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/70158 , G02B26/0833 , G02B27/0905 , G02B27/0933 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/7015 , G03F7/702 , G03F7/70316
摘要： 本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a‑d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a‑d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a‑d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a‑d，14a‑d)的分面反射镜(13，14)。
-
公开(公告)号：CN105074574A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480009868.6
申请日：2014-02-11
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/70158 , G02B26/0833 , G02B27/0905 , G02B27/0933 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/7015 , G03F7/702 , G03F7/70316
摘要： 本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a-d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a-d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a-d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a-d，14a-d)的分面反射镜(13，14)。
-
公开(公告)号：CN104718500A
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201380054067.7
申请日：2013-10-22
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： H05G2/001 , G02B27/286 , G03F7/70033 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70308 , G03F7/70566 , G21K1/06 , G21K1/062 , G21K1/16 , H01J35/00 , H05H7/04
摘要： 一种产生用于投射光刻的投射曝光设备(1)的EUV照明光的可用输出光束(3)的EUV光源(2)。该光源(2)具有产生EUV原始输出光束的EUV产生装置(2c)。该EUV原始输出光束为圆形偏振。为了设定可用输出光束(3)的偏振，相对于偏振方向，偏振设定装置(32；39)对原始输出光束具有线性偏振效果。这导致提供改进的输出光束以用于分辨率最优照明的EUV光源。
-
-
-
-
-
搜索结果
6 条记录 (耗时 0.019 秒)
