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公开(公告)号：CN117702077A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311571692.0
申请日：2023-11-23
Applicant: 南昌大学 , 南昌硅基半导体科技有限公司 , 南昌实验室
IPC: C23C16/18 , C23C16/458
Abstract: 本发明提供一种用于MOCVD设备的衬体载盘旋转驱动装置。在MOCVD真空反应腔内通过内转子轴承安装有旋转支撑件，MOCVD真空反应腔外相应位置设有外电磁线圈；旋转支撑件上方连接支撑衬体载盘，旋转支撑件下方镶嵌有磁性材料镶嵌块，磁性材料镶嵌块与外电磁线圈产生驱动力耦合。本发明将驱动电机和MOCVD真空反应腔集成为一体，采用电磁直驱方式驱动MOCVD衬体载盘转动，缩短系统传动链，提升了系统动态特性，实现近零传动。
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公开(公告)号：CN110694764B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN201910993751.0
申请日：2019-10-18
Applicant: 南昌大学
Inventor： 罗成
IPC: B02C18/18
Abstract: 本发明涉及一种用于餐厨垃圾处理机的剪切式研磨刀盘。目前处理高纤维类厨余(如茭白壳)的时候，处理效率低，处理后的纤维过长、纤维成团缠住刀盘，甚至堵塞出口和管道等情况较为常见。本发明涉及一种用于餐厨垃圾处理机的剪切式研磨刀盘，其中：撕裂刃、破碎柱固定于活动盘上，活动盘通过其中心的方孔和电机轴相连接，固定盘通过其外侧面的固定齿，安装于研磨腔内侧壁面的安装槽内，同时活动盘的下表面和固定盘的上表面相贴合。本装置的优点在于：初步破碎后的厨余垃圾，在穿过两个盘的孔洞形成的通道时被不断剪断，电机的转速高达数千转每分钟，而厨余垃圾穿过活动盘和固定盘表面孔洞的速度有限，最终可获得尺度很小的厨余垃圾处理物。
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公开(公告)号：CN110694765A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201910994494.2
申请日：2019-10-18
Applicant: 南昌大学
Inventor： 罗成
IPC: B02C18/18
Abstract: 本发明涉及一种用于餐厨垃圾处理机的破碎刀圈。目前餐厨垃圾处理机对厨余垃圾的粉碎效果还满足不了人们的要求。一是处理高硬度厨余(如猪骨)时，处理效率低、处理时间长，二是处理高纤维厨余(如茭白壳)时，处理后的纤维过长、常出现纤维成团缠住刀盘，甚至堵塞出口和管道的情况。本发明涉及一种用于餐厨垃圾处理机的破碎刀圈，其中：硬物破碎圈、间隙调整圈和纤维切割圈依次间隔叠加组合而成，在离心力以及配套刀盘的冲击作用下，研磨腔内的水流会裹挟着尺寸未达到预期要求的厨余垃圾，将其高速甩到组合刀圈内部的纤维切割齿和硬物破碎齿上，高硬度厨余被硬物破碎齿撞碎，高纤维厨余则被纤维切割齿割断，直到厨余垃圾尺寸达到足够小。
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公开(公告)号：CN110154357A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201910439758.8
申请日：2019-05-24
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明涉及一种气体辅助薄壁小截面管材挤出成型模具。运用气辅减阻原理生产管材的过程中，要求管材未被挤出口模前，模具壁面和管材壁面之间的气体压力值要足够高，以形成稳定的气垫减阻层，管材被挤出口模后，又只允许管材内部气压值只略高于大气压值，以避免管材被吹胀甚至被吹破，所要求的这两个气压值的大小相差3～5个数量级，传统模具无法满足。本发明涉及一种气体辅助薄壁小截面管材挤出成型模具，其中：机头体通过螺纹与外部挤出机相联接，分流锥、外口模一和口模压圈从左往右依次安装于机头体内孔中，分流锥通过其外圆柱面与机头体内孔配合连接，分流锥内开设两条独立的气体通道，外口模一上加工有气体流道连接螺纹，用以连接气源形成外气辅气垫层。
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公开(公告)号：CN117772714B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410044008.1
申请日：2024-01-12
Applicant: 南昌大学 , 南昌硅基半导体科技有限公司 , 南昌实验室
Abstract: 本发明公开了一种MOCVD反应腔的清洁系统及清洁方法。所述清洁系统包括激光装置、清洁装置。其中，激光装置安装于MOCVD反应腔的侧面，且激光装置的轴线与MOCVD反应腔的法线方向的夹角为α；清洁装置偏置在MOCVD反应腔的下方，清洁装置的轴线和MOCVD反应腔的轴线距离为D1。激光装置发射的激光束经清洁装置调整路径后到达MOCVD反应腔的内表面，实现对MOCVD反应腔的内腔表面的清洁。通过设置激光束的能量密度，可以确保MOCVD反应腔的清理效果又不会破坏MOCVD反应腔。清洁装置在清洁过程中持续吸收飞溅颗粒，防止飞溅颗粒扩散到其他区域。该清洁系统具有非接触、高效率、灵活性高等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117802579A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202410006769.8
申请日：2024-01-03
Applicant: 南昌大学 , 南昌硅基半导体科技有限公司 , 南昌实验室
Abstract: 本发明提供了一种调控MOCVD石墨载片盘温度均匀性的装置，包括MOCVD反应室腔体，腔体内设有石墨载片盘，石墨载片盘下方有分区发热的电阻炉发热体，用于给石墨载片盘加热；反应室腔体的圆心位置安装有高精度红外温度计来测量石墨载片盘中心的温度绝对值；反应室腔体的侧壁上安装有红外热像仪，红外热像仪与石墨载片盘法向夹角为θ，40°＜θ＜80°，红外热像仪通过反应室腔体的侧壁上的光学视窗监测整个石墨载片盘的温度相对值；高精度红外温度计测量的温度绝对值数据和红外热像仪将监测的温度相对值数据传输至上位机，上位机处理数据并运行温度调控程序驱动功率控制装置来实时调控对应区域的电阻炉发热体的发热功率，实现对石墨载片盘温度均匀性的调控。
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公开(公告)号：CN116463718A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202310480473.5
申请日：2023-04-28
Applicant: 南昌大学 , 南昌硅基半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开一种金属调制外延的设备及其制备氮化物薄膜的方法，该设备包括真空腔室、容性耦合等离子体源、束源炉、样品台、旋转装置、真空泵，其特征在于：样品台在空间上做公转运动，所述样品台公转轨迹在空间上形成一圆环；所述容性耦合等离子体源提供覆盖整个样品台公转轨迹的等离子体区，所述束源炉提供覆盖部分样品台公转轨迹的金属蒸发区。该设备的作用为：通过样品台的公转实现生长速率、金属蒸发时间占比可调的金属调制外延，除了拥有传统金属调制外延方法中降低薄膜的生长温度、抑制铟镓氮合金中的相分离的效果外，本发明还拥有更高的生长速率、更高的产能的优势。
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公开(公告)号：CN110694765B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN201910994494.2
申请日：2019-10-18
Applicant: 南昌大学
Inventor： 罗成
IPC: B02C18/18
Abstract: 本发明涉及一种用于餐厨垃圾处理机的破碎刀圈。目前餐厨垃圾处理机对厨余垃圾的粉碎效果还满足不了人们的要求。一是处理高硬度厨余(如猪骨)时，处理效率低、处理时间长，二是处理高纤维厨余(如茭白壳)时，处理后的纤维过长、常出现纤维成团缠住刀盘，甚至堵塞出口和管道的情况。本发明涉及一种用于餐厨垃圾处理机的破碎刀圈，其中：硬物破碎圈、间隙调整圈和纤维切割圈依次间隔叠加组合而成，在离心力以及配套刀盘的冲击作用下，研磨腔内的水流会裹挟着尺寸未达到预期要求的厨余垃圾，将其高速甩到组合刀圈内部的纤维切割齿和硬物破碎齿上，高硬度厨余被硬物破碎齿撞碎，高纤维厨余则被纤维切割齿割断，直到厨余垃圾尺寸达到足够小。
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公开(公告)号：CN111660530A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010528399.6
申请日：2020-06-11
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明涉及一种挤塑制品功能膜层的涂敷制备装置及方法。目前常见的塑料表面改性工艺(如表面接枝聚合、表面喷涂、表面层积、表面电晕处理等)，工序复杂、VOC排放量达不到环保要求。本发明涉及一种挤塑制品功能膜层的涂敷制备装置及方法，其中：安装特制的膜层第一涂敷室，从挤出模具挤出的塑料制品，先以熔融态流经膜层第一涂敷室。在第一涂敷室内，流经气溶胶发生器的，载有纳米粉末(或雾化液滴)的气流，气流所携载的纳米粉末(或雾化液滴)被吸附粘连到熔融的表面，形成具有特殊功能的膜层，之后气流经粉末(或雾化液滴)回收装置后，排放于大气中。本装置的优点在于：工序简单，成本低廉；产品膜层均匀而牢固；工艺扩展性强；环保性好。
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公开(公告)号：CN110843184A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201911035347.9
申请日：2019-10-29
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明所述的一种抗菌塑料引流管制备设备及其方法，应用于医疗引流塑料微管，在制备时使管的内、外表面形成一层有杀菌作用的表层膜，设备由挤出机、口模、杀菌加药系统等组成。塑料从料斗加入进入挤出机，在挤出机螺杆作用下经过输送、塑化、熔融后从挤出机机头进入口模，在口模内实现塑料引流管挤出的同时，将杀菌液引入到管内外壁面形成一层具有杀菌功能的表面膜层。
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