一种CMOS直接集成的红外探测器结构及其工艺

    公开(公告)号:CN115394767A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202210971490.4

    申请日:2022-08-12

    Applicant: 南昌大学

    Abstract: 本发明提供了一种CMOS直接集成的红外探测器结构及其工艺,包括CMOS红外探测结构和CMOS测量电路系统,所述CMOS红外探测结构和所述CMOS测量电路系统均采用CMOS工艺制备;所述CMOS红外探测结构直接集成在CMOS测量电路系统外层的单晶硅/二氧化硅层,所述二氧化硅层上设置有金属电极或导电层中的一种,所述金属电极或导电层可与CMOS测量电路系统连接,用于信号传输;所述金属电极或导电层上设置热电材料层,所述热电材料层作为整个红外探测器的光敏部位;所述热电材料层上设置导电玻璃层。本发明与CMOS直接集成,像元间距小,可实现超大像素FPA制备。本发明制备成本低,对材料单晶性要求低,器件结构微小,操作简单。

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