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公开(公告)号:CN113066913A
公开(公告)日:2021-07-02
申请号:CN202110616418.5
申请日:2021-06-03
申请人: 南昌凯迅光电有限公司
摘要: 本发明公开了N面出光AlGaInPLED薄膜芯片,所述芯片自下而上依次包括:基板、键合金属层、金属反射电极、介质层、P型欧姆接触层、发光层、N型电流扩展层、N型粗化层、N电极,所述N电极与N型粗化层直接形成欧姆接触。本发明还公开了LED薄膜芯片的制备方法。本发明直接在N型粗化层上制备欧姆接触,有效简化了N面出光AlGaInPLED薄膜芯片制备工艺,降低生产成本的同时解决了业界普遍采用n+‑GaAs作为欧姆接触层产生的吸光问题。