公开(公告)号：CN103145116B

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201210576852.6

申请日：2012-12-27

Applicant: 南京邮电大学

Inventor： 解令海 ,  黄维 ,  杜祝祝 ,  仪明东 ,  艾伟 ,  李雯

IPC: C01B31/04 ,  H01L21/336

Abstract: 本发明公开了一种制备选择性还原氧化石墨烯的方法及利用其制备电存储器的方法，通过银盐的催化，在较低的温度下，实现了氧化石墨烯片层上含氧官能团的选择性的还原；制备的器件的存储性能远高于以氧化石墨烯材料为活性层的存储器件性能。本发明方法较好地弥补了传统氧化石墨烯还原方式剧毒及还原过程不可控的局限性，拓展了氧化石墨烯材料的还原路径，有望成为石墨烯基材料化学工业生产的重要步骤，在电存储器件中，发挥了优秀的存储性能。

公开(公告)号：CN102746236A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201210249690.5

申请日：2012-07-19

Applicant: 南京邮电大学

Inventor： 解令海 ,  黄维 ,  艾伟 ,  杜祝祝 ,  赵飞

IPC: C07D235/04 ,  C07D263/54

Abstract: 本发明涉及一种制备功能化氧化石墨烯方法。具体为在多聚磷酸作为催化剂的条件下，通过氧化石墨烯的水溶液与邻羟基苯胺或邻苯二胺的溶液反应，制备出有机相可溶的功能化氧化石墨烯材料。本发明提供的功能化氧化石墨烯方法具有如下特点：（1）基团选择性高，能够选择性的利用氧化石墨烯片层上的羧基官能团；（2）产物溶解性好，可以溶解于常用的有机溶剂中；（3）操作方法简单及价格便宜等。该技术较好地弥补了传统功能化氧化石墨烯材料方法的局限性，拓展了该材料的功能化路径，有望成为石墨烯基材料化学工业生产的重要步骤，在石墨烯基复合材料、石墨烯基光电材料及有机光电功能器件中有着巨大的潜在应用。

公开(公告)号：CN102328926A

公开(公告)日：2012-01-25

申请号：CN201110191111.1

申请日：2011-07-08

Applicant: 南京邮电大学

Inventor： 黄维 ,  解令海 ,  赵飞 ,  艾伟 ,  刘举庆 ,  仪明东 ,  张广维

IPC: C01B31/04 ,  B82Y40/00

Abstract: 选择性还原氧化石墨烯材料及其制备方法属纳米科技领域，本发明具体涉及一种在紫外光辐照下，位阻胺类光稳定剂催化法制备可溶性还原石墨烯材料的技术。本发明提供的位阻胺类光稳定剂催化还原法具有：(1)基团选择性高，能够选择去除羧基和羰基；(2)产物溶解性好；(3)位阻胺催化剂属于无毒、无金属；(4)位阻胺添加剂具有分散石墨烯的能力，也可以去除；(5)操作方法简单及绿色环保等特点。该技术较好地弥补了传统氧化石墨烯材料还原方式剧毒，高能耗(高温)及还原过程不可控的不足，有望成为石墨烯材料化学工业生产的重要步骤，在石墨烯基光电材料、石墨烯基有机结构材料及有机光电功能器件中有着潜在应用，特别是应用于石墨烯基光电材料。

公开(公告)号：CN102746236B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201210249690.5

申请日：2012-07-19

Applicant: 南京邮电大学

Inventor： 解令海 ,  黄维 ,  艾伟 ,  杜祝祝 ,  赵飞

IPC: C07D235/04 ,  C07D263/54

Abstract: 本发明涉及一种制备功能化氧化石墨烯方法。具体为在多聚磷酸作为催化剂的条件下，通过氧化石墨烯的水溶液与邻羟基苯胺或邻苯二胺的溶液反应，制备出有机相可溶的功能化氧化石墨烯材料。本发明提供的功能化氧化石墨烯方法具有如下特点：（1）基团选择性高，能够选择性的利用氧化石墨烯片层上的羧基官能团；（2）产物溶解性好，可以溶解于常用的有机溶剂中；（3）操作方法简单及价格便宜等。该技术较好地弥补了传统功能化氧化石墨烯材料方法的局限性，拓展了该材料的功能化路径，有望成为石墨烯基材料化学工业生产的重要步骤，在石墨烯基复合材料、石墨烯基光电材料及有机光电功能器件中有着巨大的潜在应用。

公开(公告)号：CN103145116A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201210576852.6

申请日：2012-12-27

Applicant: 南京邮电大学

Inventor： 解令海 ,  黄维 ,  杜祝祝 ,  仪明东 ,  艾伟 ,  李雯

IPC: C01B31/04 ,  H01L21/336

Abstract: 本发明公开了一种制备选择性还原氧化石墨烯的方法及利用其制备电存储器的方法，通过银盐的催化，在较低的温度下，实现了氧化石墨烯片层上含氧官能团的选择性的还原；制备的器件的存储性能远高于以氧化石墨烯材料为活性层的存储器件性能。本发明方法较好地弥补了传统氧化石墨烯还原方式剧毒及还原过程不可控的局限性，拓展了氧化石墨烯材料的还原路径，有望成为石墨烯基材料化学工业生产的重要步骤，在电存储器件中，发挥了优秀的存储性能。

公开(公告)号：CN102328926B

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201110191111.1

申请日：2011-07-08

Applicant: 南京邮电大学

Inventor： 黄维 ,  解令海 ,  赵飞 ,  艾伟 ,  刘举庆 ,  仪明东 ,  张广维

IPC: C01B31/04 ,  B82Y40/00

Abstract: 选择性还原氧化石墨烯材料及其制备方法属纳米科技领域，本发明具体涉及一种在紫外光辐照下，位阻胺类光稳定剂催化法制备可溶性还原石墨烯材料的技术。本发明提供的位阻胺类光稳定剂催化还原法具有：(1)基团选择性高，能够选择去除羧基和羰基；(2)产物溶解性好；(3)位阻胺催化剂属于无毒、无金属；(4)位阻胺添加剂具有分散石墨烯的能力，也可以去除；(5)操作方法简单及绿色环保等特点。该技术较好地弥补了传统氧化石墨烯材料还原方式剧毒，高能耗(高温)及还原过程不可控的不足，有望成为石墨烯材料化学工业生产的重要步骤，在石墨烯基光电材料、石墨烯基有机结构材料及有机光电功能器件中有着潜在应用，特别是应用于石墨烯基光电材料。