公开(公告)号：CN112540430B

公开(公告)日：2022-05-17

申请号：CN202011560465.4

申请日：2020-12-25

Applicant: 南京邮电大学

Inventor： 刘启发 ,  张琳 ,  胡金高娃 ,  赵子岳

IPC: G02B6/13 ,  G02B6/136 ,  G02B6/124 ,  G03F7/16 ,  G02B6/122 ,  G01L1/24

Abstract: 本发明公开了一种基于波导光栅的PDMS柔性力敏传感器及制备方法，包括PDMS波导、波导光栅区，根据滤波波长‑光栅参数‑受力的关系实现力敏检测。用丙酮、酒精和去离子水清洗硅片并烘干；在硅片表面涂覆光刻胶并烘干；对硅片进行掩膜光刻和显影，将掩膜版的图形转移至光刻胶膜上；进行硅的干法刻蚀并去除光刻胶膜，得到硅模板；根据柔性需求，配比不同比例的PDMS液和固化液得到混合液，控制PDMS液和固化液配比在5:1～15:1之间；充分搅拌并在真空下完全去除混合液中的空气；将硅模板放在混合液表面，使硅模板的表面与混合液充分浸润，然后将硅模板和混合液一起加热使得混合液充分固化将硅模板揭下，得到PDMS光波导和光栅结构。

公开(公告)号：CN112540430A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202011560465.4

申请日：2020-12-25

Applicant: 南京邮电大学

Inventor： 刘启发 ,  张琳 ,  胡金高娃 ,  赵子岳

IPC: G02B6/13 ,  G02B6/136 ,  G02B6/124 ,  G03F7/16 ,  G02B6/122 ,  G01L1/24

Abstract: 本发明公开了一种基于波导光栅的PDMS柔性力敏传感器及制备方法，包括PDMS波导、波导光栅区，根据滤波波长‑光栅参数‑受力的关系实现力敏检测。用丙酮、酒精和去离子水清洗硅片并烘干；在硅片表面涂覆光刻胶并烘干；对硅片进行掩膜光刻和显影，将掩膜版的图形转移至光刻胶膜上；进行硅的干法刻蚀并去除光刻胶膜，得到硅模板；根据柔性需求，配比不同比例的PDMS液和固化液得到混合液，控制PDMS液和固化液配比在5:1～15:1之间；充分搅拌并在真空下完全去除混合液中的空气；将硅模板放在混合液表面，使硅模板的表面与混合液充分浸润，然后将硅模板和混合液一起加热使得混合液充分固化将硅模板揭下，得到PDMS光波导和光栅结构。