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公开(公告)号:CN100545300C
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200810023235.7
申请日:2008-04-03
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 有机真空成膜过程中样品的自动交替镀膜控制装置及方法涉及有机薄膜系统的自动交替控制,该装置包括:单片机与键盘电路(1)、膜厚测量模块(2)、模数转换单元(3)、电磁阀(4)、固体继电器(5)、等效可变电阻电路(6),整个控制系统主要分为四个功能模块:人机交互、膜厚控制、强弱电转换、样品蒸镀处理。本发明的控制系统实现了镀膜的自动交替控制,并且能够避免有机半导体材料在真空腔内的污染,同时控制系统简便,制造成本低廉。
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公开(公告)号:CN101298658A
公开(公告)日:2008-11-05
申请号:CN200810023235.7
申请日:2008-04-03
Applicant: 南京邮电大学
Abstract: 有机真空成膜过程中样品的自动交替镀膜控制装置及方法涉及有机薄膜系统的自动交替控制,该装置包括:单片机与键盘电路(1)、膜厚测量模块(2)、模数转换单元(3)、电磁阀(4)、固体继电器(5)、等效可变电阻电路(6),整个控制系统主要分为四个功能模块:人机交互、膜厚控制、强弱电转换、样品蒸镀处理。本发明的控制系统实现了镀膜的自动交替控制,并且能够避免有机半导体材料在真空腔内的污染,同时控制系统简便,制造成本低廉。
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