一种PMOS触发并箝拉内部电压的SCR型ESD防护器件

    公开(公告)号:CN108493186B

    公开(公告)日:2020-08-04

    申请号:CN201810169525.6

    申请日:2018-02-28

    Abstract: 本发明涉及一种PMOS触发并箝拉内部电压的SCR型ESD防护器件,针对SCR结构,在N阱中添加PMOS结构,并将PMOS漏端与P阱相连接,在正向ESD脉冲下,PMOS较反向PN结更早击穿,并通过漏端P+将电流传递到P阱,抬高P阱电位,使寄生NPN管更快开启,降低器件触发电压;另外器件内部增加了可以箝拉内部电压的新寄生晶体管,抑制正反馈机制,使器件的维持电压得到提高。

    一种具有P柱区和N柱区阶梯掺杂的SJ-VDMOS器件及制造方法

    公开(公告)号:CN108493247B

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201810165544.1

    申请日:2018-02-28

    Abstract: 本发明涉及一种具有P柱区和N柱区阶梯掺杂的SJ‑VDMOS器件及制造方法,将阶梯掺杂(变掺杂)的思想引入新结构,将漂移区超结中的超结P型柱区(11)进行阶梯掺杂,掺杂浓度由源极到漏极逐渐降低;同时超结N型柱区(12)也进行阶梯掺杂,掺杂浓度由源极到漏极逐渐升高。新型结构阶梯掺杂可以平衡漂移区的电荷,提高器件击穿电压的同时保持了器件好的导通电阻特性。并且新结构可以降低器件内部电荷存储,提高器件开关速度,当器件应用于功率集成电路时,可以有效降低开关损耗。

    一种具有扩大E-SOA区域的LDMOS器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN107910359A

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201711091191.7

    申请日:2017-11-08

    Abstract: 本发明涉及一种具有扩大E-SOA区域的LDMOS器件及其制造方法,一方面通过在P衬底(10)和N型外延层(12)之间引入第一重掺杂P+区(11),该第一重掺杂P+区(11)给漏电极(21)发生雪崩击穿产生的空穴载流子,提供了新的泄放通道;另一方面,该新的泄放通道使得大部分的漏端空穴不再从表面流通,减少了被俘获到N型外延层(12)表面场氧化层(17)中的空穴数,进一步提高了器件的可靠性,扩大了E-SOA区域。

    一种外部PMOS触发SCR-LDMOS结构的ESD防护器件

    公开(公告)号:CN107910325B

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201710975122.6

    申请日:2017-10-19

    Abstract: 本发明涉及一种外部PMOS触发SCR‑LDMOS结构的ESD防护器件,新SCR‑LMMOS结构在正向ESD脉冲作用下,一方面,利用PMOS触发电压低的优点,新结构用PMOS取代常规SCR‑LDMOS中的PN结反向击穿的触发机制,降低器件的触发电压;另一方面由外部PMOS触发SCR‑LDMOS的结构中存在新寄生晶体管可以箝拉器件内部电压,抑制器件内部的正反馈机制,提高器件的维持电压;同时新结构中存在两条ESD电流泄放通道,使得器件的电流泄放能力提高。

    一种PMOS触发并箝拉内部电压的SCR型ESD防护器件

    公开(公告)号:CN108493186A

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201810169525.6

    申请日:2018-02-28

    Abstract: 本发明涉及一种PMOS触发并箝拉内部电压的SCR型ESD防护器件,针对SCR结构,在N阱中添加PMOS结构,并将PMOS漏端与P阱相连接,在正向ESD脉冲下,PMOS较反向PN结更早击穿,并通过漏端P+将电流传递到P阱,抬高P阱电位,使寄生NPN管更快开启,降低器件触发电压;另外器件内部增加了可以箝拉内部电压的新寄生晶体管,抑制正反馈机制,使器件的维持电压得到提高。

    一种具有P柱区和N柱区阶梯掺杂的SJ-VDMOS器件及制造方法

    公开(公告)号:CN108493247A

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201810165544.1

    申请日:2018-02-28

    Abstract: 本发明涉及一种具有P柱区和N柱区阶梯掺杂的SJ-VDMOS器件及制造方法,将阶梯掺杂(变掺杂)的思想引入新结构,将漂移区超结中的超结P型柱区(11)进行阶梯掺杂,掺杂浓度由源极到漏极逐渐降低;同时超结N型柱区(12)也进行阶梯掺杂,掺杂浓度由源极到漏极逐渐升高。新型结构阶梯掺杂可以平衡漂移区的电荷,提高器件击穿电压的同时保持了器件好的导通电阻特性。并且新结构可以降低器件内部电荷存储,提高器件开关速度,当器件应用于功率集成电路时,可以有效降低开关损耗。

    一种外部PMOS触发SCR-LDMOS结构的ESD防护器件

    公开(公告)号:CN107910325A

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201710975122.6

    申请日:2017-10-19

    Abstract: 本发明涉及一种外部PMOS触发SCR-LDMOS结构的ESD防护器件,新SCR-LMMOS结构在正向ESD脉冲作用下,一方面,利用PMOS触发电压低的优点,新结构用PMOS取代常规SCR-LDMOS中的PN结反向击穿的触发机制,降低器件的触发电压;另一方面由外部PMOS触发SCR-LDMOS的结构中存在新寄生晶体管可以箝拉器件内部电压,抑制器件内部的正反馈机制,提高器件的维持电压;同时新结构中存在两条ESD电流泄放通道,使得器件的电流泄放能力提高。

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