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公开(公告)号：CN107919256A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201610880304.0
申请日：2016-10-09
Applicant: 南京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种提高532nm波长处量子效率的反射式AlGaAs光电阴极及制备方法，该光电阴极由下而上由GaAs衬底层、分布式布拉格反射镜结构的缓冲层、AlGaAs发射层以及Cs/O激活层组成；所述的分布式布拉格反射镜结构的缓冲层由10-30对的Alx1Ga1-x1As/Alx2Ga1-x2As交叠层组成。本发明通过在缓冲层中引入分布式布拉格反射镜结构，通过设置Alx1Ga1-x1As/Alx2Ga1-x2As交叠层的厚度、层数以及Al组分值x1和x2，可降低532nm波长处的反射率，提高吸收率，最终提高532nm波长处的光电发射量子效率。
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公开(公告)号：CN107665798A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201610612228.5
申请日：2016-07-28
Applicant: 南京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种大面积均匀面电子源，它包括紫外光源，光刻钢网，紫外光源外壳，第一金阴极夹具组件，第一MCP夹具组件，第二金阴极夹具组件，金阴极，MCP，第二MCP夹具组件，第三MCP夹具组件，MCP夹具与金阴极夹具连接件。本发明的面电子源采用金阴极作为光电转换部件，使用微通道板作为金阴极出射电子的电子倍增部件，使用紫外光源以及光刻钢网的组合为金阴极提供均匀光照，通过调节微通道板的板压来调节输出面电流的电流密度大小。这种结构的面电子源使我们可以得到均匀的面电流。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107230606B
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201610168591.2
申请日：2016-03-23
Applicant: 南京理工大学
IPC: H01J9/12
Abstract: 本发明公开了一种提高砷化镓光电阴极稳定性的激活方法，包括铯源激活和氧源激活，其激活步骤如下：1、开启铯源，光电流逐渐上升，光电流达到峰值后下降；2、当光电流下降速率小于0.2μA/min时，开启氧源，并保持铯源开启状态，光电流转为上升；3、当光电流再次到达峰值时关闭氧源，光电流先小幅上升然后立刻下降；4、重复步骤2和3，直到光电流的峰值电流不再增加时，先后关闭氧源和铯源，结束激活过程。通过上述方式，本发明可以得到稳定性更好、量子效率更高的砷化镓光电阴极，同时由于操作步骤简单，为实现计算机自动控制激活提供了一种更好的激活方法。
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公开(公告)号：CN107230606A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201610168591.2
申请日：2016-03-23
Applicant: 南京理工大学
IPC: H01J9/12
CPC classification number: H01J9/12
Abstract: 本发明公开了一种提高砷化镓光电阴极稳定性的激活方法，包括铯源激活和氧源激活，其激活步骤如下：1、开启铯源，光电流逐渐上升，光电流达到峰值后下降；2、当光电流下降速率小于0.2μA/min时，开启氧源，并保持铯源开启状态，光电流转为上升；3、当光电流再次到达峰值时关闭氧源，光电流先小幅上升然后立刻下降；4、重复步骤2和3，直到光电流的峰值电流不再增加时，先后关闭氧源和铯源，结束激活过程。通过上述方式，本发明可以得到稳定性更好、量子效率更高的砷化镓光电阴极，同时由于操作步骤简单，为实现计算机自动控制激活提供了一种更好的激活方法。
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公开(公告)号：CN107665798B
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201610612228.5
申请日：2016-07-28
Applicant: 南京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种大面积均匀面电子源，它包括紫外光源，光刻钢网，紫外光源外壳，第一金阴极夹具组件，第一MCP夹具组件，第二金阴极夹具组件，金阴极，MCP，第二MCP夹具组件，第三MCP夹具组件，MCP夹具与金阴极夹具连接件。本发明的面电子源采用金阴极作为光电转换部件，使用微通道板作为金阴极出射电子的电子倍增部件，使用紫外光源以及光刻钢网的组合为金阴极提供均匀光照，通过调节微通道板的板压来调节输出面电流的电流密度大小。这种结构的面电子源使我们可以得到均匀的面电流。
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公开(公告)号：CN106246512B
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201610695410.1
申请日：2016-08-20
Applicant: 南京理工大学
Abstract: 本发明提供一种用于大面积MCP清刷测试的真空装置，包括分子泵、闸板阀、支撑台架、真空室上盖、转轴组件、真空室底盘组件、转盘、接线柱。支撑台架水平设置且承载面设置若干通孔，真空室底盘组件设置于支撑台架上表面且端面设置与支撑台架一通孔匹配的分子泵通孔，真空室上盖上设置一观察窗且真空室上盖与真空室底盘同心闭合并于非工作状态下可分离，转轴组件穿过真空室底盘组件，转盘设置于真空室内部用于承载MCP及荧光屏组件且在转轴组件的驱动下转动，闸板阀设置于支撑台架下表面且设置一可闭合或打开的阀孔且阀孔与分子泵通孔对应，分子泵设置于闸板阀下端面且分子泵抽气口与阀孔对应，接线柱沿转盘的周向设置于转盘上。
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公开(公告)号：CN106246512A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610695410.1
申请日：2016-08-20
Applicant: 南京理工大学
Abstract: 本发明提供一种用于大面积MCP清刷测试的真空装置，包括分子泵、闸板阀、支撑台架、真空室上盖、转轴组件、真空室底盘组件、转盘、接线柱。支撑台架水平设置且承载面设置若干通孔，真空室底盘组件设置于支撑台架上表面且端面设置与支撑台架一通孔匹配的分子泵通孔，真空室上盖上设置一观察窗且真空室上盖与真空室底盘同心闭合并于非工作状态下可分离，转轴组件穿过真空室底盘组件，转盘设置于真空室内部用于承载MCP及荧光屏组件且在转轴组件的驱动下转动，闸板阀设置于支撑台架下表面且设置一可闭合或打开的阀孔且阀孔与分子泵通孔对应，分子泵设置于闸板阀下端面且分子泵抽气口与阀孔对应，接线柱沿转盘的周向设置于转盘上。
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