一种用于原子层沉积系统的固体源输送装置

    公开(公告)号:CN218932297U

    公开(公告)日:2023-04-28

    申请号:CN202320009402.2

    申请日:2023-01-04

    Abstract: 本实用新型实施例公开了一种用于原子层沉积系统的固体源输送装置,涉及微纳米制造技术领域。本实用新型的结构包括:固体源(14)、手动阀V1(13)、气动阀V11(9)、控制系统、固体源加热装置1(1)、固体源加热装置2(11)、固体源加热装置3(12)、固体源加热装置4(15)。由于采用多温区共同加热,尤其是对阀体、管路等的容易形成冷凝的区域准备了专门的加热装置,减少阀体、管路的冷凝现象,增加元件使用寿命。

    一种固体源内置的反应腔体装置

    公开(公告)号:CN218666280U

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202222333747.1

    申请日:2022-09-02

    Abstract: 本实用新型实施例公开了一种固体源内置的反应腔体装置,涉及原子层沉积技术领域,能够降低设备成本的同时,还避免反应物外泄。本实用新型包括:进气端密封法兰(1),固体源加热装置(2),反应腔体(3),反应腔加热装置(4),出气端密封法兰(5),单向阀(8),固体源瓶(9),气动阀(10)。进气端密封法兰(1)和出气端密封法兰(5),用来对反应腔体(3)进行密封,保证必要的真空度和避免反应物外泄;固体源加热装置(2),用来对固体源瓶(9)进行加热,使其达到反应所需的饱和蒸汽压;反应腔加热装置(4),用来对待沉积样品(7)进行加热,使其达到原子层沉积反应所需的温度;单向阀(8)、固体源瓶(9)、气动阀(10),组成反应腔体内置式固体源装置结构。

    一种二级加热反应腔体装置

    公开(公告)号:CN218521335U

    公开(公告)日:2023-02-24

    申请号:CN202222334333.0

    申请日:2022-09-02

    Abstract: 本实用新型实施例公开了一种二级加热反应腔体装置,涉及原子层沉积技术领域,能够降低能源的消耗。本实用新型包括:进气端密封法兰,第一级加热装置,第二级加热装置,压力表,真空泵,出气端密封法兰,反应腔体,气动阀Ⅱ,气动阀Ⅰ。所述的进气端密封法兰和出气端密封法兰,用来对反应腔体进行密封,保证必要的真空度和避免反应物外泄。所述的第一级加热装置,采用电加热方式,用来对前驱体源路进行预加热,使流经参与反应的前驱体源满足一定的温度要求,激发其活性。所述第二级加热装置,采用激光加热方式,通过控制激光的通断,来对待沉积样品进行灵活加热,既能满足反应效率,又能满足反应所需的具有能量。

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