一种非晶镧镥氧化物阻变薄膜及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN101649443B

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200910184700.X

    申请日:2009-08-28

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种制备非晶镧镥氧化物阻变薄膜材料的方法,镧镥氧化物陶瓷靶材的制备:在将占混合粉末总摩尔量40-60%的La2O3和40-60%的Lu2O3粉末均匀混合后,球磨12-15小时,然后在1200℃-1400℃进行预烧结,再次研磨后在1500℃-1800℃烧结12-18小时,制成镧镥氧陶瓷靶材;将镧镥氧化物陶瓷靶材固定在脉冲激光沉积制膜系统装置生长室中,用真空泵将生长室抽真空到5.0×10-4Pa以下;用电炉丝将衬底台加热至300~500℃;启动激光器,使激光束通过聚焦透镜聚焦在镧镥氧化物陶瓷靶材上,在衬底上沉积厚度为30nm~500nm厚的非晶镧镥氧化物薄膜。

    阻变氧化物材料Lu2O3薄膜制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN101643890A

    公开(公告)日:2010-02-10

    申请号:CN200910034820.1

    申请日:2009-09-09

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 阻变氧化物Lu 2 O 3 薄膜的制备方法和应用,步骤如下:a)Lu 2 O 3 陶瓷靶材的制备:将氧化镥粉末经研钵研磨后冷压成圆柱形薄片,并在箱式电阻炉中烧结,温度范围为:1400±100℃,得到致密的Lu 2 O 3 陶瓷靶材;b)将烧结好的Lu 2 O 3 靶材放在脉冲激光沉积成膜系统生长室中的靶台上,衬底固定在生长室中的衬底台上;真空度8±3×10 -5 Pa;c)激光沉积Lu 2 O 3 薄膜的厚度至50±20nm;d)将沉积好的薄膜置于快速热退火炉中,在氩气气氛保护下200℃退火60±30秒;所述衬底为金属薄膜、SiO 2 或Si(111)衬底。

    阻变氧化物材料的Co3O4薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101498042B

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN200910025901.5

    申请日:2009-03-13

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种阻变氧化物材料的氧化钴薄膜,该薄膜为多晶态,其化学式为Co3O4,薄膜厚度为200nm,其制备方法是:(1)CoOx(0<x<4/3)陶瓷靶材的制备;(2)将CoOx靶材固定在靶台上,衬底固定在衬底台上,均置于生长室中;(3)用机械泵和分子泵将生长室抽真空,关闭分子泵后,打开进气阀,向生长室通入氧气至氧气压20Pa;(4)用激光器的激光束通过透镜聚焦在CoOx靶材上;(5)用电阻炉加热衬底台,使衬底温度达660℃;(6)按单脉冲能量,确定沉积时间,在衬底上沉积厚度为200nm的Co3O4薄膜。用该薄膜制备非易失性阻变存储记忆元件,该元件的基本构型为三明治结构,即将一层多晶态氧化物Co3O4薄膜沉积在下电极Pt电极膜上,用一根Pt探针作为上电极。构成一个记忆单元。

    一种非晶镧镥氧化物阻变薄膜及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN101649443A

    公开(公告)日:2010-02-17

    申请号:CN200910184700.X

    申请日:2009-08-28

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种制备非晶镧镥氧化物阻变薄膜材料的方法,镧镥氧化物陶瓷靶材的制备:在将占混合粉末总摩尔量40-60%的La 2 O 3 和40-60%的Lu 2 O 3 粉末均匀混合后,球磨12-15小时,然后在1200℃-1400℃进行预烧结,再次研磨后在1500℃-1800℃烧结12-18小时,制成镧镥氧陶瓷靶材;将镧镥氧化物陶瓷靶材固定在脉冲激光沉积制膜系统装置生长室中,用真空泵将生长室抽真空到5.0×10 -4 Pa以下;用电炉丝将衬底台加热至300~500℃;启动激光器,使激光束通过聚焦透镜聚焦在镧镥氧化物陶瓷靶材上,在衬底上沉积厚度为30nm~500nm厚的非晶镧镥氧化物薄膜。

    阻变氧化物材料的Co3O4薄膜和制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN101498042A

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200910025901.5

    申请日:2009-03-13

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种阻变氧化物材料的氧化钴薄膜,该薄膜为多晶态,其化学式为Co3O4,薄膜厚度为200nm,其制备方法是:(1)CoOx(0<x<4/3)陶瓷靶材的制备;(2)将CoOx靶材固定在靶台上,衬底固定在衬底台上,均置于生长室中;(3)用机械泵和分子泵将生长室抽真空,关闭分子泵后,打开进气阀,向生长室通入氧气至氧气压20Pa;(4)用激光器的激光束通过透镜聚焦在CoOx靶材上;(5)用电阻炉加热衬底台,使衬底温度达660℃;(6)按单脉冲能量,确定沉积时间,在衬底上沉积厚度为200nm的Co3O4薄膜。用该薄膜制备非易失性阻变存储记忆元件,该元件的基本构型为三明治结构,即将一层多晶态氧化物Co3O4薄膜沉积在下电极Pt电极膜上,用一根Pt探针作为上电极。构成一个记忆单元。

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