公开(公告)号：CN107099845B

公开(公告)日：2019-03-22

申请号：CN201710269810.0

申请日：2017-04-24

Applicant: 南京大学

Inventor： 姚淑华 ,  吕洋洋 ,  李啸 ,  陈延彬 ,  周健 ,  陈延峰

IPC: C30B29/46 ,  C30B25/00

Abstract: 本发明公开了一种具有巨大磁电阻的HfTe5‑δ晶体及其生长方法。本发明的HfTe5‑δ晶体呈带状，长度尺寸范围为0.5‑2cm，δ的值为0.02～0.12。当δ的值为0.06时，HfTe5‑δ晶体在2K温度和9T磁场下最大的磁电阻为2.5×104％，在室温9T磁场下最大的磁电阻为33％。本发明制备所述HfTe5‑δ晶体采用的是气相输运方法，使用I2、Br2、TeI4、TeBr4或TeCl4作为输运剂，以真空密封的石英管为生长容器，在400℃(生长端)～550℃(原料端)的温区中生长晶体，并通过生长原料中加入过量的Te粉优化生长工艺，获得具有巨大磁电阻的HfTe5‑δ晶体，在新型磁阻器件应用方面有重要研究价值。

公开(公告)号：CN107099845A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201710269810.0

申请日：2017-04-24

Applicant: 南京大学

Inventor： 姚淑华 ,  吕洋洋 ,  李啸 ,  陈延彬 ,  周健 ,  陈延峰

IPC: C30B29/46 ,  C30B25/00

CPC classification number: C30B29/46 ,  C30B25/00

Abstract: 本发明公开了一种具有巨大磁电阻的HfTe5‑δ晶体及其生长方法。本发明的HfTe5‑δ晶体呈带状，长度尺寸范围为0.5‑2cm，δ的值为0.02～0.12。当δ的值为0.06时，HfTe5‑δ晶体在2K温度和9T磁场下最大的磁电阻为2.5×104％，在室温9T磁场下最大的磁电阻为33％。本发明制备所述HfTe5‑δ晶体采用的是气相输运方法，使用I2、Br2、TeI4、TeBr4或TeCl4作为输运剂，以真空密封的石英管为生长容器，在400℃(生长端)～550℃(原料端)的温区中生长晶体，并通过生长原料中加入过量的Te粉优化生长工艺，获得具有巨大磁电阻的HfTe5‑δ晶体，在新型磁阻器件应用方面有重要研究价值。