一种三明治结构线栅宽带偏振器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103197368A

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201310158611.4

    申请日:2013-04-28

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种三明治结构线栅宽带偏振器及其制备方法。本发明的偏振器,由基板上的Al-SiO2-Al三明治结构纳米线栅构成,基板为在通讯波段透明的光学材料;Al-SiO2-Al三明治结构纳米线栅的结构参数为:线栅周期350-400纳米,线栅占空比60%-50%,线栅总厚度300-400纳米,第一层金属铝的厚度为80-170nm,SiO2的厚度为50-120nm,第二层金属铝的厚度为80-210nm。本发明方法步骤为:清洗基板、基板表面旋涂SU8胶、旋涂含Si的紫外压印胶、在含Si的紫外压印胶表面形成纳米线栅结构、刻蚀残余层、在SU8胶上刻出纳米线栅结构、沉积薄膜(Al、SiO2、Al)、超声举离,形成Al-SiO2-Al三明治结构纳米线栅。本发明宽带偏振器在1300-2000nm波段范围内不仅具有很高的TM波透射率,而且具有很高的消光比,且工艺简单、加工误差容忍度好。

    一种三明治结构线栅宽带偏振器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103197368B

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201310158611.4

    申请日:2013-04-28

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种三明治结构线栅宽带偏振器及其制备方法。本发明的偏振器,由基板上的Al-SiO2-Al三明治结构纳米线栅构成,基板为在通讯波段透明的光学材料;Al-SiO2-Al三明治结构纳米线栅的结构参数为:线栅周期350-400纳米,线栅占空比60%-50%,线栅总厚度300-400纳米,第一层金属铝的厚度为80-170nm,SiO2的厚度为50-120nm,第二层金属铝的厚度为80-210nm。本发明方法步骤为:清洗基板、基板表面旋涂SU8胶、旋涂含Si的紫外压印胶、在含Si的紫外压印胶表面形成纳米线栅结构、刻蚀残余层、在SU8胶上刻出纳米线栅结构、沉积薄膜(Al、SiO2、Al)、超声举离,形成Al-SiO2-Al三明治结构纳米线栅。本发明宽带偏振器在1300-2000nm波段范围内不仅具有很高的TM波透射率,而且具有很高的消光比,且工艺简单、加工误差容忍度好。

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