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公开(公告)号：CN101162753A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710134577.1
申请日：2007-11-02
Applicant: 南京大学
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明涉及一种提高发光效率的稀土掺杂二氧化硅薄膜制备方法，属于光电子器件材料技术领域。该方法的步骤为配制前驱体溶胶溶液、在衬底上形成湿膜、热分解湿膜、在衬底上制备薄膜、高温退火。实验证明，采用本发明的方法可以使稀土离子的发光产生数量级的增强，可以与半导体工业相兼容，具有操作方便、快捷、成本低廉、制备条件温和、工艺重复性好、效果明显等优点，完全可以应用于未来的硅基光电子领域。
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公开(公告)号：CN101509123B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200910024491.2
申请日：2009-02-24
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明涉及一种低温下制备小尺寸氧化铟锡纳米线材料的方法，属于光电子器件材料技术领域。其主要步骤为在电子束蒸发仪腔体中装入靶材和衬底，关闭电子束蒸发仪的腔体，将腔体内抽真空并烘烤腔体，调节电子束斑，使之打在ITO靶材表面，调节电子束束流，使靶材蒸发后在衬底上的沉积速率为0.2-0.5nm/s，待衬底上达到所需沉积厚度时，停止蒸发，冷却后完成制备。本发明利用常规电子束蒸发装置在较低温度下制备出小尺寸的ITO纳米线材料。所获得的纳米材料不仅具有优异的场发射性能和良好的减反射特性，而且均匀可控，成本低廉，可以实现大面积制备，不需要添加任何催化剂，因此可以在发光、显示和光伏产业中应用。
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公开(公告)号：CN101509123A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910024491.2
申请日：2009-02-24
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明涉及一种低温下制备小尺寸氧化铟锡纳米线材料的方法，属于光电子器件材料技术领域。其主要步骤为在电子束蒸发仪腔体中装入靶材和衬底，关闭电子束蒸发仪的腔体，将腔体内抽真空并烘烤腔体，调节电子束斑，使之打在ITO靶材表面，调节电子束束流，使靶材蒸发后在衬底上的沉积速率为0.2－0.5nm/s，待衬底上达到所需沉积厚度时，停止蒸发，冷却后完成制备。本发明利用常规电子束蒸发装置在较低温度下制备出小尺寸的ITO纳米线材料。所获得的纳米材料不仅具有优异的场发射性能和良好的减反射特性，而且均匀可控，成本低廉，可以实现大面积制备，不需要添加任何催化剂，因此可以在发光、显示和光伏产业中应用。
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公开(公告)号：CN100481547C
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200710134577.1
申请日：2007-11-02
Applicant: 南京大学
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明涉及一种提高发光效率的稀土掺杂二氧化硅薄膜制备方法，属于光电子器件材料技术领域。该方法的步骤为配制前驱体溶胶溶液、在衬底上形成湿膜、热分解湿膜、在衬底上制备薄膜、高温退火。实验证明，采用本发明的方法可以使稀土离子的发光产生数量级的增强，可以与半导体工业相兼容，具有操作方便、快捷、成本低廉、制备条件温和、工艺重复性好、效果明显等优点，完全可以应用于未来的硅基光电子领域。
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