一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法

    公开(公告)号:CN105154816B

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201510607534.5

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法,属于材料表面加工技术领域。首先利用电弧增强辉光放电产生的Ar+对热作模具表面进行离子刻蚀,去除材料表面的氧化物。而后炉内连续通入高纯N2、高纯H2、以及高纯Ar,保持炉内温度(300‑500℃)和气压(0.2‑1.0Pa)恒定,工件转平台接脉冲电源负极,进行等离子渗氮。渗氮层中化合物层厚度为0‑2μm,硬度1000‑1300HV0.1,脆性等级小于1级,疏松级别小于1级。在渗氮过程中通有氢气和氩气,提高表面活性,降低气氛中的活性氮原子浓度,抑制化合物层的产生,降低硬度梯度。

    一种等离子辅助电弧技术制备TiCN成分梯度硬质涂层的方法

    公开(公告)号:CN105154825A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201510607505.9

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开一种等离子辅助电弧技术制备TiCN成分梯度硬质涂层的方法。该方法先将基体研磨、抛光、超声清洗,辅以离子清洗与刻蚀,然后采用先进等离子辅助电弧技术(APA-Arc),在一定负偏压、沉积温度、气体压强条件下,通过改变反应气体流量在基体表面沉积具有成分梯度结构的TiCN硬质涂层。与传统方法制备TiCN涂层相比,本发明显著有效提高了TiCN涂层的硬度和膜基结合能力,降低了表面粗糙度,提高耐磨性能,有效提高了涂层刀具和机械零部件的加工效率和使用寿命。且涂层工艺简单,易于实施,更适合于工业化生产。

    一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法

    公开(公告)号:CN105177493B

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201510607501.0

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法。首先利用电弧增强辉光放电产生的Ar+对热作模具表面进行离子刻蚀,去除材料表面的氧化物。而后炉内连续通入一定流量高纯N2、高纯H2、以及高纯Ar,保持炉内温度(300‑600℃)和气压(0.2‑1.0 Pa)恒定,工件转平台接脉冲电源负极,进行等离子渗氮。2h渗氮渗层深度在15‑40μm,渗氮层中化合物层厚度0‑3μm,硬度1000‑1300 HV0.1,脆性等级小于1级,疏松级别小于1级。此外,通过氩离子有效、实时地轰击活化工件表面,以达到增加氮原子扩散通道,加速渗氮过程,最终得到高强度高韧性的渗氮表层。

    一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法

    公开(公告)号:CN105154816A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201510607534.5

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法,属于材料表面加工技术领域。首先利用电弧增强辉光放电产生的Ar+对热作模具表面进行离子刻蚀,去除材料表面的氧化物。而后炉内连续通入高纯N2、高纯H2、以及高纯Ar,保持炉内温度(300-500℃)和气压(0.2-1.0Pa)恒定,工件转平台接脉冲电源负极,进行等离子渗氮。渗氮层中化合物层厚度为0-2μm,硬度 1000-1300HV0.1,脆性等级小于1级,疏松级别小于1级。在渗氮过程中通有氢气和氩气,提高表面活性,降低气氛中的活性氮原子浓度,抑制化合物层的产生,降低硬度梯度。

    一种金属3D打印大孔径水路随形冷却模具的方法

    公开(公告)号:CN117620203A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202311491117.X

    申请日:2023-11-10

    Abstract: 本发明公开了一种金属3D打印大孔径水路随形冷却模具的方法。首先设计具有自支撑结构随形冷却水路的三维模型,水路内部设计网格支撑结构,以保证大孔径水路顺利打印成型;支撑结构为冷却水路的一部分,后续无需去除;然后将模型数据导入金属3D打印设备打印成型,获得大孔径随形冷却模具。这种内部带支撑结构的随形冷却水路,能够保证水路的结构强度,有效避免在金属3D打印过程中应力导致的悬垂结构坍塌,从而突破常规随形冷却水路在金属3D打印时的最大可成型尺寸限制(通常直径小于10mm)。进而实现大型和大冷却水路模具的快速、高效制造,获得高冷却效率和冷却质量的随形冷却模具,提高生产效率和经济效益。

    一种高离化率高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜的方法

    公开(公告)号:CN105154838B

    公开(公告)日:2018-06-22

    申请号:CN201510607467.7

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种高离化率高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜的方法,涉及薄膜材料技术领域。它主要解决了现有的靶材离化率低、等离子体不均匀以及薄膜均匀性差的问题。本发明的方法为:一,清洗腔室,并将试样固定于行星台上;二,将行星台放入密封腔室,抽真空,去除试样上的水分及吸附的空气;三,在试样上加负偏压,通高纯Ar气;四,向腔室通入Ar气以及N2,溅射靶材施加脉冲电压,进行表面镀膜;五,采用步进电机控制行星台运动轨迹来控制镀膜;六,待真空室内温度降至室温即可取出试样。本发明改变了薄膜制备时的靶材磁场控制以及镀膜时靶材电压施加形式,使得膜厚及致密度易于控制,结合力和均匀度高。

    一种高离化率高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜的方法

    公开(公告)号:CN105154838A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201510607467.7

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种高离化率高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜的方法,涉及薄膜材料技术领域。它主要解决了现有的靶材离化率低、等离子体不均匀以及薄膜均匀性差的问题。本发明的方法为:一,清洗腔室,并将试样固定于行星台上;二,将行星台放入密封腔室,抽真空,去除试样上的水分及吸附的空气;三,在试样上加负偏压,通高纯Ar气;四,向腔室通入Ar气以及N2,溅射靶材施加脉冲电压,进行表面镀膜;五,采用步进电机控制行星台运动轨迹来控制镀膜;六,待真空室内温度降至室温即可取出试样。本发明改变了薄膜制备时的靶材磁场控制以及镀膜时靶材电压施加形式,使得膜厚及致密度易于控制,结合力和均匀度高。

    一种金属3D打印制备自支撑流道的随形冷却模具制造方法

    公开(公告)号:CN113500207A

    公开(公告)日:2021-10-15

    申请号:CN202110728052.0

    申请日:2021-06-29

    Abstract: 本发明公开了一种金属3D打印制备自支撑流道的随形冷却模具制造方法;首先设计具有自支撑结构随形冷却水路的三维模型,该水路靠近模具表面呈螺旋状随形分布,水路内部设计网格支撑结构,支撑结构与水路内壁紧密贴合,为水路成型过程提供支撑,同时保证冷却水路的有效水流量。模具底部与注塑机装配部分使用金刚石网格结构,实现网格化减材。然后,将模型数据导入金属3D打印设备;最后选择合适材料,采用优化参数进行3D打印成型模具。这种内部带支撑结构的随形冷却水路,能够保证水路的结构强度,有效避免在成型过程中的结构坍塌,从而突破冷却水路最大可成型尺寸限制。进而实现模具的快速、高效和高质量冷却,提高生产效率和经济效益。

    一种等离子辅助电弧技术制备TiCN成分梯度硬质涂层的方法

    公开(公告)号:CN105154825B

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201510607505.9

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开一种等离子辅助电弧技术制备TiCN成分梯度硬质涂层的方法。该方法先将基体研磨、抛光、超声清洗,辅以离子清洗与刻蚀,然后采用先进等离子辅助电弧技术(APA‑Arc),在一定负偏压、沉积温度、气体压强条件下,通过改变反应气体流量在基体表面沉积具有成分梯度结构的TiCN硬质涂层。与传统方法制备TiCN涂层相比,本发明显著有效提高了TiCN涂层的硬度和膜基结合能力,降低了表面粗糙度,提高耐磨性能,有效提高了涂层刀具和机械零部件的加工效率和使用寿命。且涂层工艺简单,易于实施,更适合于工业化生产。

    一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法

    公开(公告)号:CN105177493A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201510607501.0

    申请日:2015-09-22

    CPC classification number: C23C8/36

    Abstract: 本发明公开了一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法。首先利用电弧增强辉光放电产生的Ar+对热作模具表面进行离子刻蚀,去除材料表面的氧化物。而后炉内连续通入一定流量高纯N2、高纯H2、以及高纯Ar,保持炉内温度(300-600℃)和气压(0.2-1.0Pa)恒定,工件转平台接脉冲电源负极,进行等离子渗氮。2h渗氮渗层深度在15-40μm,渗氮层中化合物层厚度0-3μm,硬度1000-1300HV0.1,脆性等级小于1级,疏松级别小于1级。此外,通过氩离子有效、实时地轰击活化工件表面,以达到增加氮原子扩散通道,加速渗氮过程,最终得到高强度高韧性的渗氮表层。

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