一种磁控溅射高熵氮化复合涂层的制备方法及应用

    公开(公告)号:CN119710596A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411956803.4

    申请日:2024-12-29

    Abstract: 本发明提供一种磁控溅射高熵氮化复合涂层的制备方法及其应用,属于表面处理技术领域,包括:制备TiZrNbTaW合金靶材,所述合金靶材通过粉末冶金法获得;基底处理,所述基底处理包括将钛基底磨抛至镜面状态以及进行超声清洗;磁控溅射沉积过程,所述磁控溅射沉积过程包括将沉积腔室抽真空至预定真空度、对基底进行加热、预溅射去除表面杂质,在固定功率条件下通入氮气交替沉积TiZrNbTaW涂层和TiZrNbTaWN0.75氮化涂层,形成TiZrNbTaW Nx复合涂层。该方法克服了质子交换膜电解水领域现行贵金属防护涂层的高成本缺点,提供一种兼具耐腐蚀性能与导电性能的保护涂层,适合在大规模工业生产中应用。

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