金属化膜电容器在交直流复合电压下劣化机理的解耦方法

    公开(公告)号:CN113311275B

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN202110687158.0

    申请日:2021-06-21

    Abstract: 本发明公开了一种金属化膜电容器在交直流复合电压下劣化机理的解耦方法,属于电力设备测试技术领域。本发明通过对金属化膜电容器及与金属化膜电容器相同参数的导线电容,进行老化试验对比,解耦出电化学腐蚀和热效应、以及自愈现象所造成的金属化膜电容器劣化,解耦方法简单易行,有助于准确分析金属化膜电容器的失效原因,指导电容器的设计和应用方法,以及电容器在工程应用中的可靠性和寿命预测,进而保证换流器的长期稳定运行。本发明可以广泛应用于直流输电换流阀、风电换流器等设备中的直流支撑电容,实用性强。

    金属化膜电容器在交直流复合电压下劣化机理的解耦方法

    公开(公告)号:CN113311275A

    公开(公告)日:2021-08-27

    申请号:CN202110687158.0

    申请日:2021-06-21

    Abstract: 本发明公开了一种金属化膜电容器在交直流复合电压下劣化机理的解耦方法,属于电力设备测试技术领域。本发明通过对金属化膜电容器及与金属化膜电容器相同参数的导线电容,进行老化试验对比,解耦出电化学腐蚀和热效应、以及自愈现象所造成的金属化膜电容器劣化,解耦方法简单易行,有助于准确分析金属化膜电容器的失效原因,指导电容器的设计和应用方法,以及电容器在工程应用中的可靠性和寿命预测,进而保证换流器的长期稳定运行。本发明可以广泛应用于直流输电换流阀、风电换流器等设备中的直流支撑电容,实用性强。

    一种金属化薄膜电容器的损耗计算方法、装置及系统

    公开(公告)号:CN118604472A

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202410554788.4

    申请日:2024-05-07

    Abstract: 本发明公开了一种金属化薄膜电容器的损耗计算方法、装置及系统,属于金属化膜电容器检测技术领域,包括:将金属化薄膜电容器处于运行状态下的电流分解为多次谐波的叠加,得到前N次谐波电流的有效值;N≥2;计算前N次谐波中的任一次谐波的等效串联电阻与基波下的等效串联电阻ESR1的比值,得到该次谐波下的谐波等效系数;计算前N次谐波电流与对应谐波等效系数的乘积的平方和的算数平方根,得到等效基波电流I1eq,进而计算得到金属化薄膜电容器损耗#imgabs0#本发明考虑到谐波对于电容器损耗影响,将电容器电阻特性与运行工况解耦分析,能够以一种简单的方式提高多次谐波作用下的金属化薄膜电容器的损耗计算精度。

    一种直流支撑电容器老化试验电源装置

    公开(公告)号:CN115327273A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202210999577.2

    申请日:2022-08-19

    Abstract: 本发明公开了一种直流支撑电容器老化试验电源装置,包括:交流电压输出模块和直流电压输出模块;所述交流电压输出模块和直流电压输出模块并联,形成并联端口;所述并联端口一端与待测的直流支撑电容器连接,另一端接地;所述交流电压输出模块用于输出幅值和频率可调的交流电压;所述直流电压输出模块用于输出幅值和升压速率可调的直流电压。本发明可以输出交直流复合电压,也可以实现单一的直流或交流电压的输出;同时可以对输出的交流电压的幅值和频率进行调节,也可以对直流电压的幅值和升压速率进行调节;本发明试验装置简单、可操作性强、输出电压高。

    一种薄膜介质击穿光谱测量装置及方法

    公开(公告)号:CN118275830A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202410247903.3

    申请日:2024-03-05

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜介质击穿光谱测量装置及方法,属于高压绝缘及光电测量领域,包括:加压模块、光收集模块、光谱仪及光电转换器件;所述加压模块用于给待测样品加压,以使薄膜介质发生击穿并产生击穿电弧;其中,所述待测样品为单面蒸镀金属电极的薄膜介质,所述薄膜介质的厚度为微米级;所述光收集模块用于从垂直于击穿点方向收集击穿电弧产生的光,并聚焦后折射到所述光谱仪的狭缝上;所述光谱仪用于将聚焦后的光进行分光,然后经过所述光电转换器件转换为用于测量击穿电弧的光谱。本发明能够实现微米级薄膜介质在微秒级放电过程的电弧光谱测量。

    一种微小间隙电弧观测方法及装置

    公开(公告)号:CN113406457A

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN202110817699.0

    申请日:2021-07-20

    Abstract: 本发明公开了一种微小间隙电弧观测方法及装置,属于高压测量领域。该观测方法为:向金属化膜施加压强,排出金属化膜之间的空气;向金属化膜施加击穿电压,金属化膜部分区域重叠,所述重叠部分在电压作用下发生击穿形成击穿区域产生电弧;产生的电弧所发射的光经反射成像,拍摄金属化膜击穿过程中电弧形貌变化的发展过程。观测装置包括击穿试验平台及测量系统。通过本发明的观测装置,能够观测到微米级厚金属化薄膜击穿过程中电弧形貌变化的发展过程,便于研究自愈过程中电弧的发展机理,并可以拓展到其他微米级间隙放电观测领域;另外,本发明观测装置结构简单、可操作性强。

    绝缘电介质击穿的尺寸效应预测方法及其应用

    公开(公告)号:CN119493953A

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN202411474967.3

    申请日:2024-10-22

    Abstract: 本发明公开了绝缘电介质击穿的尺寸效应预测方法及其应用,属于绝缘技术领域,包括:获取多个不同尺寸的大尺寸电介质各自的混合分布模型,基于混合分布模型计算各大尺寸电介质的整体击穿强度,并计算得到电介质的击穿强度随尺寸变化的尺寸效应曲线;混合分布模型的获取方式包括:选取相同多个相同尺寸的小尺寸电介质,分别确定击穿强度后,通过频数分析得到击穿峰个数和各击穿峰对应的击穿强度范围;根据击穿强度范围确定各击穿峰对应的击穿强度概率分布形式,拟合得到小尺寸电介质的混合分布模型Fsmall(E);构建方程[1‑Fsmall(E)]k=1‑Flarge(E)并求解,得到大尺寸电介质的混合分布模型Flarge(E)。本发明能够提高大尺寸电介质击穿强度的计算精度。

    一种获取电介质击穿强度所需最小样本数的确定方法

    公开(公告)号:CN119247057A

    公开(公告)日:2025-01-03

    申请号:CN202411340789.5

    申请日:2024-09-25

    Abstract: 本发明公开了一种获取电介质击穿强度所需最小样本数的确定方法,属于电介质分析技术领域,所述方法包括:利用设定的当前实验样本数、各个击穿原因对应的Weibull子分布的可靠性度量值和可靠性估计值表征每个子分布的当前关键量以选取目标子分布;考虑目标子分布的当前关键量与参考值的关系,若当前关键量大于参考值则增加当前实验样本数直至对应的当前关键量低于参考值,并将当前实验样本数作为最小样本数。本发明提出的最小样本数确定方法计及多种击穿原因的变化规律设计出与当前实验样本数相关的当前关键量,结合当前关键量与参考值之间的关系动态动态调整当前实验样本数,最终快速、准确地确定出最小样本数。

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