一种高强铁基复合材料的激光3D打印方法及其产品

    公开(公告)号:CN116944519A

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202310954384.X

    申请日:2023-07-31

    Abstract: 本发明公开一种高强铁基复合材料的激光3D打印方法及其产品,属于高强铁基复合材料领域,以高强铁基非晶和高韧性高熵合金两个体系的混合金属粉末作为原料,采用搭配高能量密度连续激光和高频脉冲激光两种热源的激光选区熔化3D打印方式进行复合材料的制备。激光3D打印过程先用连续激光进行金属粉末的熔化,再用高频脉冲激光进行同步逐层重熔,两次激光处理后的超高冷速能够抑制元素偏析,减少元素扩散,在抑制微裂纹的同时保留非晶合金的超高强度,使复合材料的强度能够超过2GPa。脉冲激光的重熔不仅能够消除首次凝固后的孔洞等缺陷,还能够提高成形件的致密度和表面质量,减少后续零件处理工序,解决超高强度零件难加工的问题。

    一种原子级厚度的二维铋纳米片材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114672831B

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202210473774.0

    申请日:2022-04-29

    Inventor: 申燕 潘杰 王鸣魁

    Abstract: 本发明属于二维材料制备技术领域,具体涉及一种原子级厚度的二维铋纳米片材料及其制备方法和应用,包括:将化学抛光的铜片置于预先配制的沉积溶液中,采用循环伏安法,在铜片表面预沉积得到铋纳米颗粒,沉积溶液中包含铋离子和溴离子,溴离子吸附在预沉积的铋纳米颗粒表面以作为结构诱导剂;循环伏安法替换为恒电位法,采用恒电位法继续还原沉积溶液中的铋离子,得到尺寸比铋纳米颗粒小的铋颗粒,结构诱导剂促使铋颗粒定向聚集,形成原子级厚度的二维铋纳米片。本发明方法工艺简便可控,污染小,不需要高真空和高温条件,制备获得的原子级厚度的二维铋纳米片具有良好的电催化还原CO2产甲酸的性能。

    主动式力控伺服打磨装置

    公开(公告)号:CN113263398A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110741834.8

    申请日:2021-06-30

    Inventor: 潘杰 陈凡 薄香平

    Abstract: 本发明属于打磨设备技术领域,涉及一种主动式力控伺服打磨装置,包括固定端安装板,所述固定端安装板的同一侧安装打磨电机和浮动旋转机构,打磨电机驱动所述浮动旋转机构转动,浮动旋转机构下端浮动部连接浮动端安装板,所述浮动旋转机构的固定部与固定端安装板相连接,浮动旋转机构的输出端延伸至浮动端安装板的下方并固定连接打磨头组件;固定端安装板还安装力控装置,所述力控装置的下端与浮动端安装板相连接,力控装置驱动浮动端安装板伸缩移动。该打磨装置能够实现对复杂曲面进行各种姿态下的力控磨抛,通过更换打磨头的类型,适配不同的磨抛工艺。

    一种冷喷涂铜钨石墨烯涂层、其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118256905A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202410358524.1

    申请日:2024-03-27

    Abstract: 本申请属于电磁发射装备铜基轨道耐磨涂层领域,更具体地,涉及一种冷喷涂铜钨石墨烯涂层、其制备方法和应用。以CuCrZr合金粉末、W粉和石墨烯纳米片的混合粉末作为原料,通过高压冷喷涂在基底上喷涂制备得到。实验证明,这三种粉末的结合能够综合W颗粒高强度、硬度和石墨烯良好自润滑能力的优点,使复合涂层的COF能够降低至0.16,磨损率相对于基底降低一个数量级以上。

    一种梯度结构镍铜磷合金制备方法及其产品

    公开(公告)号:CN115233258A

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202211013230.2

    申请日:2022-08-23

    Abstract: 本发明公开一种梯度结构镍铜磷合金及其制备方法,涉及金属材料技术领域。本发明提供的制备方法利用电化学沉积工艺,通过计算机调控电沉积参数,能在镍铜磷三元合金中制备出不同分布形式的双梯度结构,包括微米级粗晶‑超细晶‑纳米晶的晶粒尺寸梯度,同时还包括铜、磷含量逐渐变化的成分梯度。镍铜磷三元合金体系中构筑梯度结构能消除组元成分变化导致的各性能突变,实现优异的力学性能。同时,铜元素的添加能进一步提升合金的耐腐蚀性、抗蛋白粘附性及抗藻类粘附性。通过上述方法制备得到的梯度结构镍铜磷合金具有优异的力学性能、同时具备防腐与防污一体化的多功能性,可进一步拓宽镍基合金的应用范围,并为面向未来的工程应用提供技术储备。

    一种原子级厚度的二维铋纳米片材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114672831A

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202210473774.0

    申请日:2022-04-29

    Inventor: 申燕 潘杰 王鸣魁

    Abstract: 本发明属于二维材料制备技术领域,具体涉及一种原子级厚度的二维铋纳米片材料及其制备方法和应用,包括:将化学抛光的铜片置于预先配制的沉积溶液中,采用循环伏安法,在铜片表面预沉积得到铋纳米颗粒,沉积溶液中包含铋离子和溴离子,溴离子吸附在预沉积的铋纳米颗粒表面以作为结构诱导剂;循环伏安法替换为恒电位法,采用恒电位法继续还原沉积溶液中的铋离子,得到尺寸比铋纳米颗粒小的铋颗粒,结构诱导剂促使铋颗粒定向聚集,形成原子级厚度的二维铋纳米片。本发明方法工艺简便可控,污染小,不需要高真空和高温条件,制备获得的原子级厚度的二维铋纳米片具有良好的电催化还原CO2产甲酸的性能。

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