公开(公告)号：CN118221990A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202410367159.0

申请日：2024-03-28

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 胡彬 ,  黄震 ,  沈澜

IPC: C08J7/04 ,  C08J7/06 ,  C08J7/12 ,  C08J5/18 ,  C08L79/08 ,  H05K9/00

Abstract: 本发明公开一种高稳定性透明电磁屏蔽薄膜及其制备方法，属于电磁屏蔽技术领域。所述方法包括以下步骤：S1.将聚酰胺酸溶液涂布在基材上，然后进行预固化，得到聚酰胺酸薄膜；S2.将聚酰胺酸薄膜进行等离子体处理，在聚酰胺酸薄膜上涂布银纳米线分散液，再在90～120℃下进行热处理；S3.在银纳米线网络层上涂布聚酰胺酸溶液，进行梯度热亚胺化，剥离后即得。本发明可以增强银纳米线与衬底的键合强度，并将银纳米线网络层包裹在具有一体式结构的聚酰亚胺层中，相比于现有技术中具有明显界面层的两层聚酰亚胺层，本发明的一体式聚酰亚胺层具有优异的机械强度，可以更好的将导电网络保护起来，增强导电网络的稳定性，进而提升电磁屏蔽薄膜的耐候性和稳定性。