一种用于大面积薄膜制备的磁控系统

    公开(公告)号:CN117344279A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202311440934.2

    申请日:2023-10-31

    Abstract: 本发明属于磁控溅射薄膜沉积相关技术领域,并公开了一种用于大面积薄膜制备的磁控系统。该磁控系统包括沉积基片和移动靶,沉积基片与移动靶相对设置,移动靶包括靶材、供气环和动态磁体,该靶材与电场阴极连接使得靶材作为磁控溅射的阴极靶材,供气环用于向靶材周围提供反应气体,动态磁铁设置在移动靶中,用于在靶材周围提供磁场范围可调的磁场;当移动靶的中心与沉积基片的圆心在同一水平线上时,磁场范围最小,在沉积基片上形成的沉积斑面积最小,当移动靶沿着沉积基片的半径方向远离该沉积基片的圆心运动时,磁场范围逐渐增大,在沉积基片上形成的沉积斑面积逐渐增大。通过本发明,解决现有技术中大面积薄膜制备的沉积均匀性难以调控的问题。

    一种用于调控高熵合金元素比例的磁控溅射方法及系统

    公开(公告)号:CN115896721A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202211414362.6

    申请日:2022-11-11

    Abstract: 本发明属于磁控溅射镀膜相关技术领域,其公开了一种用于调控高熵合金元素比例的磁控溅射方法及系统,方法包括:对磁控溅射单元的多个靶台电源分别进行调制,根据溅射量需求将靶台电源的直流电或脉冲交流电调制为不同频率、幅值或占空比的方波交流电,所述方波交流电的频率大于或等于kHz级,进而实现靶台在高电平时进行溅射,在低电平时停止溅射,实现不同靶台有效溅射时间的控制,进而控制不同高熵合金元素的溅射比例。本申请在高频交替溅射下实现高熵合金元素比例的调节,且避免了分层现象的产生。

    一种用于心血管基础和药物筛查的应用模型及构建方法

    公开(公告)号:CN118909918A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202410978781.5

    申请日:2024-07-22

    Abstract: 本发明提供一种用于心血管基础和药物筛查的应用模型及构建方法,包括一种用于高静水压干预的体外可灌注的微血管3D模型,所述微血管3D模型是通过血管内皮细胞、血管平滑肌细胞和基质成纤维细胞的空间控制共培养构建而成,实现模拟心血管系统的可灌注网络,用于组织工程和血管功能建模,本发明高静水压干预血管3D模型,是一个先进的研究工具,它不仅能够帮助科学家更好地理解血管生物力学和血管平滑肌细胞、内皮细胞等细胞的所处的微环境,还有可能在未来用于临床前的药物开发和疾病病理机制探索研究。

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