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公开(公告)号:CN106542828A
公开(公告)日:2017-03-29
申请号:CN201610906824.4
申请日:2016-10-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: C04B35/581 , C04B35/63 , C04B35/64
CPC classification number: C04B35/581 , C04B35/6303 , C04B35/64 , C04B2235/5436
Abstract: 本发明公开了一种低温烧结高热导率的氮化铝陶瓷,包括氮化铝、氧化钇和氟化镧,氮化铝的质量百分比为95%~97%,氧化钇的质量百分比为2%,氟化镧的质量百分比为1%~3%。还公开了制备氮化铝陶瓷的方法,包括将氮化铝粉体、氧化钇和氟化镧混合,经湿法球磨、干燥、造粒、压制并烧结,制得氮化铝陶瓷。本发明所提供的氮化铝陶瓷烧结温度低至1700℃~1800℃,其热导率可达到160~200W/(m·K),介电常数为9~10,介电损耗为0.8×10-3~1.3×10-3,可以满足半导体器件和集成电路等产业的应用要求。